[发明专利]制造有机电致发光元件的方法

说明书

发明背景

本发明涉及制造有机EL元件的方法(EL：电致发光)。该制造方 法包括在透明的衬底上形成透明电极的步骤、在电极形成后将阴影掩 模(shadow mask)与透明衬底对准的步骤以及该对准之后通过淀积在 透明电极上层叠有机EL层的步骤。

近来，关注点已集中到作为自发光型的发光元件的有机电致发光 元件上。制造有机EL元件的基本方法包括：制备其上形成作为透明 电极的阳极的图案的玻璃衬底的步骤；以及在该玻璃衬底上层叠有机 EL层和阴极的步骤。该有机EL层具有层叠结构，其中包括空穴输送 层、发光层和电子输送层。可以在该阳极和该空穴输送层之间设置空 穴注入层，并可以在该阴极和该电子输送层之间设置电子注入层。发 射白光的发光层可只用一层形成，或者可通过层叠红发光层、绿发光 层和蓝发光层而形成。

当在衬底上形成有机EL元件的各层时，该衬底被置于真空室中并 用掩模紧密接触地覆盖。该掩模具有多个开口，它们形成得具有预定 的微细图案。有机原料在真空室中蒸发并通过该掩模的这些开口。有 机原料相应地淀积在衬底上。结果制造出有机EL元件。有机EL元件 的近期开发目标是形成具有高分辨率的彩色图像，因此，掩模的开口 形成得相当微细。在各淀积步骤，这种具有许多微细开口的掩模须在 前一步骤已淀积的衬底上精确定位。

为了将掩模相对于玻璃衬底定位，可在玻璃衬底上形成衬底标记 作为该透明电极在该玻璃衬底上形成图案之后的对准标记。在掩模上 形成掩模标记作为另一个对准标记。掩模利用该衬底标记和该掩模标 记相对于玻璃衬底定位。一般，衬底标记是用金属膜形成的，在对准 步骤中用白光照射该衬底标记，使之变得可见。

传统技术中，制造半导体器件用的曝光装置具有对准测量装置。 在曝光之前该对准测量装置将掩模相对于半导体晶圆定位。在日本公 开专利出版物No.5-226220公开的对准测量装置中，获得在衬底标记 和该衬底标记以外的部分之间具有良好反差的图像数据。该对准测量 装置的目标是，即使要对准的样品即半导体晶圆的表面反射率、该衬 底标记的高度、覆盖在该半导体晶圆上的抗蚀剂厚度及其他条件变化， 也要获得良好的反差。

上述出版物所公开的对准测量装置具有照射衬底标记的照射光 源、多个滤光片和波长选择装置。照射光源具有一个连续和平坦的发 射光谱。各滤光片都有一个狭窄的透射波长范围。各滤光片的透射波 长的中央波长彼此不同。该波长选择装置在照射光的光路上设有滤光 片中的一个。该对准测量装置预先在不同的工艺步骤中改变滤光片， 以测量该衬底标记，并储存获得最大反差的滤光片。然后实际上进行 测量对准，该对准测量装置控制该波长选择装置，使得所存储的滤光 片设置在该照射光的光路上。

但是，当衬底标记由金属膜形成时，需要有在玻璃衬底上形成该 衬底标记的专门步骤。这使制造步骤增加。

上述出版物揭示了，让照射光通过滤光片来改善衬底标记的反差。 但是，上述出版物中没有说明该有机EL元件的制造。

发明内容

本发明的目标是提供一种制造有机EL元件的方法，它没有在透明 衬底上形成对准标记的专门步骤，而是通过向对准标记照射光使阴影 掩模与透明衬底对准，该光具有与透明电极的厚度对应的适当波长。

按照本发明的一个方面，提供一种有机EL元件的制造方法。该方 法包括在透明衬底上形成透明电极的步骤和在该透明衬底上形成衬底 标记作为对准标记的步骤。同时在该透明衬底上形成衬底标记与透明 电极。衬底标记用与透明电极相同的材料形成。衬底标记具有厚度。 透明衬底设置在阴影掩模上方，以将该阴影掩模与该透明衬底对准。 备妥白光光源和多个滤光片。各滤光片透射波长的中心波长彼此不同。 从这些滤光片选出对应于该衬底标记厚度的滤光片。光从白光光源透 过选定的滤光片而照射到衬底标记。从而，用衬底标记将阴影掩模与 透明衬底对准。有机EL层通过该阴影掩模的淀积而层叠在该透明电 极上。

从以下结合附图以举例方式说明本发明原理的描述中，显见本发 明的其他形态和优点。

附图说明

被认为具有新颖性的本发明的特征在后附的权利要求书中具体提 出。对照附图参阅关于当前的优选实施例的描述，可以最好地理解本 发明及其目标和优点。附图中：

图1是表示本发明第一实施例的透明衬底的示意平面图；