[发明专利]含铜材料用蚀刻剂组合物有效
| 申请号： | 200810107456.2 | 申请日： | 2008-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN101498000A | 公开（公告）日： | 2009-08-05 |
| 发明（设计）人： | 池田公彦;中村裕介;正元祐次;下泽正和 | 申请（专利权）人： | 株式会社ADEKA |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 李 帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 材料 蚀刻 组合 | ||
【权利要求书】：
1.一种含铜材料用蚀刻剂组合物，其特征在于，由以
(A)选自铜离子及铁离子中的至少一种的氧化剂成分0.1～15质量％、
(B)具有1个羟基的二醇醚类化合物0.001～5质量％、
(C)将环氧乙烷及环氧丙烷中的至少一种加成到胺类化合物的活性氢上得 到的化合物0.001～5质量％、
(D)选自磷酸及磷酸盐中的至少1种的磷酸成分0.1～5质量％、以及
(E)选自盐酸及硫酸中的至少一种的无机酸0.1～10质量％
为必须成分的水溶液构成。
2.根据权利要求1所述的含铜材料用蚀刻剂组合物，其特征在于，所述胺 类化合物为多元胺类化合物。
3.根据权利要求1或2所述的含铜材料用蚀刻剂组合物，其特征在于，所 述(C)成分是将环氧丙烷及环氧乙烷嵌段加成或无规加成到乙二胺的活性氢上 得到的化合物。
4.根据权利要求1或2所述的含铜材料用蚀刻剂组合物，其特征在于，所 述(C)成分具有2000～10000的数均分子量。
5.根据权利要求3所述的含铜材料用蚀刻剂组合物，其特征在于，所述(C) 成分具有2000～10000的数均分子量。
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