[发明专利]一种用于等静压成型陶瓷坯体的施釉工艺方法有效
| 申请号： | 200810107108.5 | 申请日： | 2008-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN101318843A | 公开（公告）日： | 2008-12-10 |
| 发明（设计）人： | 江伟辉;谭训彦;包镇红;顾幸勇;刘健敏;苗立峰 | 申请（专利权）人： | 景德镇陶瓷学院 |
| 主分类号： | C04B41/86 | 分类号： | C04B41/86 |
| 代理公司： | 景德镇市高岭专利事务所 | 代理人： | 程雷 |
| 地址： | 333001江西省*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 静压 成型 陶瓷 工艺 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于等静压成型陶瓷坯体的施釉工艺方法，其特征是：先在经900℃～1000℃素烧的陶瓷坯体表面浸渍高分子聚合物水溶液，干燥后施底釉，再干燥后施面釉；其中所述的高分子聚合物水溶液浸渍后能够在坯体表面形成一层微孔有机薄膜；所述的高分子聚合物是羧甲基纤维素钠或聚乙烯醇，高分子聚合物溶液浓度为0.1wt％～2.0wt％。
2.根据权利要求1所述的施釉工艺方法，其特征是所述底釉和面釉的细度要求分别是：底釉是过100目筛筛余量为0.2wt％～0.5wt％，面釉是过250目筛筛余量为0.02wt％～0.05wt％。
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