[发明专利]一种皮带输送平面转弯系统无效
| 申请号: | 200810101210.4 | 申请日: | 2008-02-29 |
| 公开(公告)号: | CN101239675A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
| 发明(设计)人: | 张开元 | 申请(专利权)人: | 张开元 |
| 主分类号: | B65G15/60 | 分类号: | B65G15/60;B65G15/02 |
| 代理公司: | 北京轻创知识产权代理有限公司 | 代理人: | 杨立 |
| 地址: | 100036北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 皮带 输送 平面 转弯 系统 | ||
1、一种皮带输送平面转弯系统,包括直输送段和转弯输送段,在转弯输送段处设有气室,气室的上端设有气室盘槽,其特征在于:所述转弯输送段气室盘槽内侧的开孔率为气室盘槽外侧开孔率的1.5-3倍。
2、根据权利要求1所述的平面转弯系统,其特征在于:所述直输送段处设有气室,所述气室上端的气室盘槽沿输送带中心线呈对称分布,其气室盘槽两侧和中部的开孔率为其它部分开孔率的1.5-3倍。
3、根据权利要求1所述的平面转弯系统,其特征在于:所述转弯输送段的气室为弧形,所述气室盘槽内侧的曲率半径小于气室盘槽外侧的曲率半径。
4、根据权利要求3所述的平面转弯系统,其特征在于:所述转弯输送段的气室盘槽外侧的曲率半径和气室盘槽中部的曲率半径相同,所述气室盘槽内侧的曲率半径小于气室盘槽外侧的曲率半径。
5、根据权利要求3或4所述的平面转弯系统,其特征在于:在转弯输送段处,气室盘槽内侧的曲率半径为气室盘槽外侧曲率半径的0.1-0.5倍。
6、根据权利要求5所述的平面转弯系统,其特征在于:所述输送带宽为1-2m,气室盘槽角度为25°-60°,所述气室盘槽外侧的曲率半径为450mm-2300mm。
7、根据权利要求3或4所述的平面转弯系统,其特征在于:当转弯输送段处的平面转弯曲率半径增大或减小时,转弯处气室盘槽内侧的曲率半径也随之增大或减小。
8、根据权利要求1-4任一所述的平面转弯系统,其特征在于:所述转弯输送段的起点段设有摩擦传动装置。
9、根据权利要求8所述的平面转弯系统,其特征在于:所述摩擦传动装置包括传动滚筒、绕传动滚筒旋转的传动带及带动传动滚筒旋转的传动电机,所述传动带与承载带贴合。
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