[发明专利]屏蔽装置和制造屏蔽装置的方法有效
申请号: | 200810096459.0 | 申请日: | 2008-05-09 |
公开(公告)号: | CN101578033A | 公开(公告)日: | 2009-11-11 |
发明(设计)人: | 沈国良 | 申请(专利权)人: | 莱尔德电子材料(深圳)有限公司 |
主分类号: | H05K9/00 | 分类号: | H05K9/00;B21D28/10;B21C23/02 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 党晓林 |
地址: | 518103深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 屏蔽 装置 制造 方法 | ||
1.一种屏蔽装置,其特征在于,该屏蔽装置包括:
屏蔽罩本体,该屏蔽罩本体具有侧壁和顶部,在所述顶部开设有至少一个的安装开口;
至少一个隔断内墙,每个隔断内墙具有顶部和沿顶部向下弯折延设的内墙侧壁;在顶部上形成有向上凸出的至少一个突起安装部,每个突起安装部的形状与所述屏蔽罩本体顶部上的所述安装开口中的一个相对应;
其中,所述突起安装部嵌合安装在设置在屏蔽罩本体的顶部的相对应的安装开口内,从而利用内墙侧壁将所述屏蔽罩本体分隔成至少两个腔室。
2.如权利要求1所述的屏蔽装置,其特征在于,所述突起安装部和所述安装开口的嵌合采用过盈挤压接合的方式连接。
3.如权利要求1所述的屏蔽装置,其特征在于,所述突起安装部凸出的高度为所述隔断内墙的顶部壁厚的二分之一至五分之四。
4.如权利要求3所述的屏蔽装置,其特征在于,所述突起安装部凸出的高度为所述隔断内墙的顶部壁厚的三分之二。
5.如权利要求1所述的屏蔽装置,其特征在于,所述安装开口的周边轮廓和所述突起安装部的周边轮廓均形成为具有多个凸部和/或凹部的凸凹形状。
6.如权利要求5所述的屏蔽装置,其特征在于,所述的凸凹形状设置成至少在所述安装开口或所述突起安装部的周边轮廓的一部分上的相邻的凸部/凹部和凸部/凹部之间的间隔距离小于所屏蔽的电子器件的电磁频率的波长的二十分之一。
7.如权利要求6所述的屏蔽装置,其特征在于,所述间隔距离设置为不大于3mm。
8.如权利要求6所述的屏蔽装置,其特征在于,所述凸凹形状中的至少一个所述凸部和/或凹部形成为燕尾形。
9.如权利要求6所述的屏蔽装置,其特征在于,所述凸凹形状中的至少一个所述凸部和/或凹部形成为“V”字形。
10.一种屏蔽装置的制造方法,其特征在于,该方法包括:
形成顶部具有至少一个安装开口的屏蔽罩本体;
形成至少一个具有顶部和沿顶部向下延设的内墙侧壁的隔断内墙;
在每一个所述隔断内墙的顶部上形成至少一个形状与所述安装开口中的一个相对应的突起安装部;
将所述突起安装部嵌合到相对应的所述安装开口内。
11.如权利要求10所述的屏蔽装置的制造方法,其特征在于,所述隔断内墙的顶部的突起安装部以半冲切的方式形成。
12.如权利要求10所述的屏蔽装置的制造方法,其特征在于,半冲切形成所述突起安装部的半冲切深度为所述隔断内墙的顶部壁厚的二分之一至五分之四。
13.如权利要求10所述的屏蔽装置的制造方法,其特征在于,所述突起安装部与相对应的安装开口的嵌合采用过盈挤压接合的方式连接。
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