[发明专利]用于增加蓝光透光率的抗反射涂层结构及其制作方法

权利要求书

1、一种用于增加蓝光透光率的低电阻光衰减抗反射涂层结构，其特征在于，包括有：

一基板；以及

一涂层模块，形成于该基板的一前表面上，并且该涂层模块由多层预定涂层、多层含铝氧化物涂层、与多层金属涂层彼此相互交替相叠而组成。

2、根据权利要求1所述的用于增加蓝光透光率的低电阻光衰减抗反射涂层结构，其特征在于，这些预定涂层为多层碳硅化合物涂层或多层具有碳硅化合物与含钛氧化物的混合物涂层。

3、根据权利要求2所述的用于增加蓝光透光率的低电阻光衰减抗反射涂层结构，其特征在于，该涂层模块包括：

一第一涂层，形成于该基板的一前表面上；

一第一转色涂层，形成于该第一涂层上；

一第二涂层，形成于该第一转色涂层上；

一第二转色涂层，形成于该第二涂层上；

一第三涂层，形成于该第二转色涂层上；

一第三转色涂层，形成于该第三涂层上；

一第四涂层，形成于该第三转色涂层上；

一第四转色涂层，形成于该第四涂层上；

一第五涂层，形成于该第四转色涂层上；

一第五转色涂层，形成于该第五涂层上；

一第六涂层，形成于该第五转色涂层上；

一第六转色涂层，形成于该第六涂层上；

一第七涂层，形成于该第六转色涂层上；

一第七转色涂层，形成于该第七涂层上；

一第八涂层，形成于该第七转色涂层上；

一第八转色涂层，形成于该第八涂层上；以及

一第九涂层，形成于该第八转色涂层上；

其中，该第一涂层、该第三涂层、该第五涂层、该第七涂层、及该第九涂层皆为碳硅化合物涂层；该第一转色涂层、该第二转色涂层、该第三转色涂层、该第四转色涂层、该第五转色涂层、该第六转色涂层、该第七转色涂层、及该第八转色涂层皆为含铝氧化物涂层；该第二涂层、该第四涂层、该第六涂层、及该第八涂层皆为金属涂层；

其中，该第一转色涂层、该第二转色涂层、该第三转色涂层、该第四转色涂层、该第五转色涂层、该第六转色涂层、该第七转色涂层、及该第八转色涂层的厚度皆为3nm～6nm。

4、根据权利要求2所述的用于增加蓝光透光率的低电阻光衰减抗反射涂层结构，其特征在于，该涂层模块包括：

一第一涂层，形成于该基板的一前表面上；

一第一转色涂层，形成于该第一涂层上；

一第二涂层，形成于该第一转色涂层上；

一第二转色涂层，形成于该第二涂层上；

一第三涂层，形成于该第二转色涂层上；

一第三转色涂层，形成于该第三涂层上；

一第四涂层，形成于该第三转色涂层上；

一第四转色涂层，形成于该第四涂层上；

一第五涂层，形成于该第四转色涂层上；

一第五转色涂层，形成于该第五涂层上；

一第六涂层，形成于该第五转色涂层上；

一第六转色涂层，形成于该第六涂层上；

一第七涂层，形成于该第六转色涂层上；

一第七转色涂层，其形成于该第七涂层上；

一第八涂层，形成于该第七转色涂层上；

一第八转色涂层，形成于该第八涂层上；以及

一第九涂层，形成于该第八转色涂层上；

其中，该第一涂层、该第三涂层、该第五涂层、该第七涂层、及该第九涂层皆为具有碳硅化合物与含钛氧化物的混合物涂层；该第一转色涂层、该第二转色涂层、该第三转色涂层、该第四转色涂层、该第五转色涂层、该第六转色涂层、该第七转色涂层、及该第八转色涂层皆为含铝氧化物涂层；该第二涂层、该第四涂层、该第六涂层、及该第八涂层皆为金属涂层；

其中，该第一转色涂层、该第二转色涂层、该第三转色涂层、该第四转色涂层、该第五转色涂层、该第六转色涂层、该第七转色涂层、及该第八转色涂层的厚度皆为3nm～6nm。

5、根据权利要求2所述的用于增加蓝光透光率的低电阻光衰减抗反射涂层结构，其特征在于，这些碳硅化合物涂层为碳化硅，该含钛氧化物为二氧化钛，这些含铝氧化物涂层为三氧化二铝，并且这些金属涂层为银。