[发明专利]曝光绘图装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种在电子电路基板、液晶组件用玻璃基板、PDP用玻 璃组件基板等平面基板上形成电路图案(pattern)的曝光绘图装置。

背景技术

形成电路图案于平面基板的曝光绘图装置，公知是以将转写掩模和 作为被曝光体的基板接触的接触方式或不被接触的非接触方式的曝光装 置作为主流。最近从掩模的管理和保养方面，如专利文献1或专利文献2 所示，对于不使用转写掩模而将绘图光直接照射至基板而绘图电路图案 的曝光绘图装置的要求变高。

此曝光绘图装置将应转写的图案作为绘图数据，传送至曝光绘图装 置，在曝光绘图装置，经由此数据，进行根据作为空间光调制组件的 DMD(Digital Micro-mirror Device，数字微型反射镜组件)组件的控制,照射 绘图光，在平面基板将电路图案绘图的装置。曝光绘图装置可享受不使 用掩模的最大优点。

如专利文献3所示，在曝光绘图工序中，为了设定在基板绘图的电 路图案的位置，在曝光前，预先在基板的周边开小直径的孔，将这些孔 作为对位符号(alignment mark)，决定曝光的电路图案的位置和姿势。特 别在电子电路基板,在基板的两面形成电路图案的情形较多，以在基板的 表里面、对位符号一致的方式，贯穿基板的小直径的孔被使用。

[专利文献1]日本特开2006-113413

[专利文献2]日本特开2006-343684

[专利文献3]日本特开2006-267191

发明内容

然而，在孔加工中附着的尘埃、以及移动过程中附着于孔的尘埃落 下至其它基板，或在光阻涂布等加工中的加热工序引起孔周边的变形， 这些问题在要求高分辨率的基板上成为问题。

因此，本发明提供一种曝光绘图装置，在基板的两面上形成将在绘 图电路图案时所必要的对位符号。

第一观点的曝光绘图装置包括：基板投入部，将形成有感光层的基 板投入至基板校正位置；校正部，将被投入至此基板校正位置的上述基 板校正至规定位置；符号形成部，对于通过校正部被校正的基板的第一 面以及第二面，形成第一及第二对位符号；绘图部，基于第一及第二对 位符号，将电路图案绘图至基板的第一面及第二面；以及存储部，其存 储上述第一对位符号和上述第二对位符号的二维平面的差异信息；其中 上述绘图部根据上述第一对位符号将电路图案绘图于上述第一面上，且 根据上述第二对位符号及上述差异信息将电路图案绘图于上述第二面 上。。

根据此构成，不需将贯穿基板的第一面及第二面的孔作为对位符号， 即可形成第一及第二对位符号。因此，不会有附着于孔的尘埃落至其它 基板。

即使在精密制作的符号形成部，在第一面的第一对位符号和第二面 的第二对位符号之间也会产生误差。然而，本发明的曝光绘图装置利用 将此误差作为差异信息而存储在存储部中，在将电路图案绘图之际，使 用此差异信息，可将第一面的电路图案和第二面的电路图案正确地对应。

在第二观点的曝光绘图装置中，符号形成部利用短波长的照明光， 在基板的两面上同时形成上述第一及第二对位符号。

在第二观点的曝光绘图装置中，利用短波长的照明光，可在两面同 时形成。

在第三观点的曝光绘图装置中，符号形成部具有第一面符号形成部 和第二面符号形成部，各个符号形成部可在与上述基板平行的二维平面 移动，且可在于上述二维平面直交的方向移动。

根据此构成，由于第一面符号形成部及第二面符号形成部可接近基 板，可以少的光量且短时间形成第一对位符号以及第二对位符号。

第四观点的曝光绘图装置在第四观点中，符号形成部具有仅在第一 面符号形成部的一方照射短波长的照明光的机构。

根据此构成，对于只需在第一面形成电路图案的基板而言，可仅在 第一面形成第一对位符号。

第五观点的曝光绘图装置的基板投入部具有在不同于基板校正位置 的位置接到基板后将上述基板移动至基板校正位置的多个旋转滚子。

符号形成部不在和基板校正位置相同的位置形成对位符号的情形， 利用多个旋转滚子移动基板即可。

目前在其它工序形成对位符号的工序可省略，可在电路图案形成工 序之前形成对位符号，并可减少总共的工序数。即，本发明的曝光绘图 装置，即使在完全没有预先形成对位符号的绘图第一层的基板上，也可 形成直接绘图图案用的对位符号。