[发明专利]曝光绘图装置有效
申请号: | 200810096063.6 | 申请日: | 2008-04-30 |
公开(公告)号: | CN101320220A | 公开(公告)日: | 2008-12-10 |
发明(设计)人: | 石桥臣友;清水修一 | 申请(专利权)人: | 株式会社ORC制作所 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 绘图 装置 | ||
1.一种曝光绘图装置,其特征在于,包括:
基板投入部,其将形成有感光层的基板投入至基板校正位置;
校正部,其将被投入至该基板校正位置的上述基板校正至规定位置;
符号形成部,其在通过上述校正部被校正的基板的第一面以及第二 面上形成第一及第二对位符号;
绘图部,其根据上述第一及第二对位符号,将电路图案绘图至上述 基板的第一面及第二面;以及
存储部,其存储上述第一对位符号和上述第二对位符号的二维平面 的差异信息,
其中上述绘图部根据上述第一对位符号将电路图案绘图于上述第一 面上,且根据上述第二对位符号及上述差异信息将电路图案绘图于上述 第二面上。
2.根据权利要求1所述的曝光绘图装置,其中上述符号形成部经由 短波长的照明光,在上述基板的两面上同时形成上述第一及第二对位符 号。
3.根据权利要求1所述的曝光绘图装置,其中上述符号形成部具有 第一面符号形成部和第二面符号形成部,各个符号形成部可在与上述基 板面平行的二维平面移动,且可在与上述二维平面直交的方向移动。
4.根据权利要求2所述的曝光绘图装置,其中上述符号形成部具有 第一面符号形成部和第二面符号形成部,各个符号形成部可在与上述基 板面平行的二维平面移动,且可在与上述二维平面直交的方向移动。
5.根据权利要求3所述的曝光绘图装置,其中上述符号形成部具有 仅在上述第一面符号形成部的一方照射短波长的照明光的机构。
6.根据权利要求4所述的曝光绘图装置,其中上述符号形成部具有 仅在上述第一面符号形成部的一方照射短波长的照明光的机构。
7.根据权利要求1至6中的任意一项所述的曝光绘图装置,其中上 述基板投入部具有将上述基板从基板被投入的位置移动至上述基板校正 位置的多个旋转滚子。
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