[发明专利]线路板及其制作工艺有效

专利信息
申请号: 200810092629.8 申请日: 2008-04-16
公开(公告)号: CN101562944A 公开(公告)日: 2009-10-21
发明(设计)人: 刘逸群;陈宗源;曾子章;江书圣 申请(专利权)人: 欣兴电子股份有限公司
主分类号: H05K3/10 分类号: H05K3/10;H05K3/46;H05K3/42;H05K3/44;H05K1/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 线路板 及其 制作 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种线路板及其制作工艺,特别是涉及一种具有活化绝缘层(active insulation layer)的线路板结构及其制作工艺。

背景技术

在目前的线路板技术中,线路板的线路通常都是通过光刻与蚀刻制作工艺而形成,而有关上述形成线路板的线路的方法,请参阅图1A至图1D以及以下的说明。

图1A至图1D是现有的一种线路板的制作工艺的示意图。请先参阅图1A,首先,在一绝缘层112上全面性地形成一层铜金属层120,其中铜金属层120是由无电电镀法以及电镀法所形成。

请参阅图1B,接着,进行光刻制作工艺,以形成一层光致抗蚀剂130在铜金属层120上,其中光刻制作工艺包括曝光以及显影二制作工艺,而光致抗蚀剂130覆盖铜金属层120,并局部暴露出铜金属层120的表面120a。

请参阅图1B与图1C,接着,以光致抗蚀剂130为遮罩,进行蚀刻铜金属层120,以移除被图案化感光层130所暴露出来的部分铜金属层120,并形成一铜线路层120’,并暴露出部分绝缘层112。其中铜线路层120’包括多个铜垫122以及多条走线124。

请参阅图1C与图1D,接着,全面移除光致抗蚀剂130,以暴露出铜线路层120’。之后,形成一覆盖部分铜线路层120’与部分绝缘层112的防焊层140,其中防焊层140暴露出这些铜垫122。至此,一种线路板100已制造完成。

由此可知,铜线路层120’必须通过光刻制作工艺以及蚀刻铜金属层120才能形成。目前手机、电脑等电子商品已成为现代人所不可或缺的重要工具,而许多这些电子商品的制造商以及相关厂商对线路板100的需求量越来越高。因此,如何简化线路板100的制作工艺,增加制造线路板100的速率,以进一步地缩短线路板100的制造时间,是值得探讨的课题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种线路板的制作工艺,其能缩短制造线路板的时间。

本发明的再一目的在于提供一种线路板,其制作工艺能缩短制造线路板的时间。

本发明的另一目的在于提供一种线路板,其制作工艺能增加制造线路板的速率。

本发明的目的是这样实现的,即提出一种线路板的制作工艺,其包括:首先,形成至少一活化绝缘层于一基板上,其中活化绝缘层包括多颗触媒颗粒。接着,在活化绝缘层的表面上形成一凹刻图案,其中一些触媒颗粒活化并裸露于凹刻图案内。接着,利用一化学方法,在凹刻图案内形成一导电图案层。

在本发明的一实施例中,上述触媒颗粒包括多个奈米颗粒。

在本发明的一实施例中,上述奈米颗粒的材质为过渡金属错合物。

在本发明的一实施例中,上述过渡金属错合物的材质选自锰、铬、钯以及铂所组成的群组。

在本发明的一实施例中,上述活化绝缘层的介电常数介于于2.0至5.3之间。

在本发明的一实施例中,上述形成凹刻图案的方法包括对活化绝缘层进行激光烧蚀(laser trenching)、等离子体蚀刻(plasma etching)或机械切割制作工艺。

在本发明的一实施例中,上述机械切割制作工艺包括水刀切割、喷砂或外型切割(routing)。

在本发明的一实施例中,上述化学方法包括无电电镀法或化学气相沉积。

在本发明的一实施例中,上述形成活化绝缘层的方法包括:形成一第一活化绝缘层于基板的一上表面。接着,形成一第二活化绝缘层于基板的一下表面,其中上表面相对于下表面。

在本发明的一实施例中,上述形成凹刻图案的方法包括:形成一第一凹刻图案于第一活化绝缘层上。接着,形成一第二凹刻图案于第二活化绝缘层上。

在本发明的一实施例中,上述形成导电图案层的方法包括:利用化学方法,形成一第一导电图案层于第一凹刻图案内。接着,利用化学方法,形成一第二导电图案层于第二凹刻图案内。

在本发明的一实施例中,上述基板包括一介电层以及至少一导电连接结构,其中介电层具有至少一贯孔,而导电连接结构配置于贯孔中,且导电连接结构连接于第一导电图案层与第二导电图案层之间。

在本发明的一实施例中,上述导电连接结构是由通孔电镀或填充一导电流体材料所形成。

在本发明的一实施例中,上述导电流体材料为铜膏、铜胶、碳胶、碳膏、银膏或银胶。

在本发明的一实施例中,上述导电连接结构为一导电柱。

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