[发明专利]处理系统、处理方法和计算机程序

权利要求书

1.一种处理系统，其特征在于，包括：

处理室，收容被处理体；

处理气体供给装置，向该处理室内供给处理气体；

处理条件存储单元，存储包括从所述处理气体供给装置供给的处理气体的流量的与处理内容对应的处理条件；

模型存储单元，存储表示处理气体的流量与处理结果的关系的流量处理结果关系模型；

流量计算单元，输入在所述处理条件存储单元所存储的处理条件下处理所述被处理体的处理结果，基于该处理结果和由所述模型存储单元所存储的流量处理结果关系模型，计算处理气体的流量；和

处理单元，当由所述流量计算单元计算出处理气体的流量时，将所述处理条件的处理气体的流量变更为由所述流量计算单元计算出的处理气体的流量，对被处理体进行处理。

2.一种处理系统，其特征在于，包括：

处理室，收容被处理体或者该被处理体的检查用基板；

处理气体供给装置，用于向该处理室内供给处理气体；

处理条件存储单元，存储包括由所述处理气体供给装置供给的处理气体的流量的与处理内容对应的处理条件；

误差信息存储单元，存储有与处理结果的误差有关的误差信息，所述处理结果的误差是由于所述被处理体和所述检查用基板之间的不同所引起的；

模型存储单元，存储表示处理气体的流量与处理结果的关系的流量处理结果关系模型；

处理条件提取单元，基于所述误差信息存储单元所存储的误差信息，根据所述被处理体的目标处理结果计算所述检查用基板的目标处理结果，从所述处理条件存储单元所存储的处理条件中提取与计算出的所述检查用基板的目标处理结果对应的处理条件；

检查用基板处理单元，在由所述处理条件提取单元所提取的处理条件下处理所述检查用基板；

判断单元，判断由所述检查用基板处理单元所处理的处理结果是否包括在所述检查用基板的目标处理结果的规定范围内；

流量计算单元，当由所述判断单元判断为不包括在规定范围内时，基于处理所述检查用基板的处理结果和所述模型存储单元所存储的流量处理结果关系模型，计算处理气体的流量；和

流量变更单元，当由所述流量计算单元计算出处理气体的流量时，将所述处理条件的处理气体的流量变更为所述流量计算单元计算出的处理气体的流量，在所述检查用基板处理单元中处理检查用基板。

3.如权利要求2所述的处理系统，其特征在于：

还包括被处理体处理单元，当由所述判断单元判断为包括在规定范围内时，在由所述处理条件提取单元所提取的处理条件下处理被处理体。

4.如权利要求2或3所述的处理系统，其特征在于：

所述误差信息存储单元存储与所述被处理体和所述检查用基板的装载效果有关的误差信息。

5.如权利要求1或2中任一项所述的处理系统，其特征在于：

所述流量处理结果关系模型是对于构成所述处理条件的各要件基于两个以上的不同条件下的处理结果而作成的，即使所述处理条件变更也能够对应。

6.如权利要求1或2中任一项所述的处理系统，其特征在于：

所述处理气体供给单元具有插入到所述处理室内的多个处理气体供给管，

所述流量计算单元计算每个处理气体供给管供给的流量。

7.如权利要求1或2中任一项所述的处理系统，其特征在于：

还包括处理条件更新单元，其用于将所述处理条件存储单元所存储的处理气体的流量更新为由所述流量计算单元计算出的处理气体的流量。

8.如权利要求1或2中任一项所述的处理系统，其特征在于：

所述处理室被划分为多个区域，

所述模型存储单元存储有表示每个所述区域的处理气体的流量与处理结果的关系的流量处理结果关系模型。

9.如权利要求1或2中任一项所述的处理系统，其特征在于：

所述处理内容为成膜处理。