[发明专利]二烯烃聚合物及其制备方法无效
| 申请号: | 200810081101.0 | 申请日: | 2008-02-26 |
| 公开(公告)号: | CN101255213A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
| 发明(设计)人: | 小坂田耕太郎;竹内大介;朴世训;植村真;藤田正行 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社;国立大学法人东京工业大学 |
| 主分类号: | C08F136/20 | 分类号: | C08F136/20;C08F4/70 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 韦欣华;李炳爱 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 烯烃 聚合物 及其 制备 方法 | ||
1.一种包含由下式(1)表示的单元的聚合物:
其中Y1为含醚键烷基、含醚键芳烷基、烷氧基、芳烷氧基或芳氧基;Y2为氢原子、卤素原子、羟基、腈基、醛基、烷基、芳烷基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、氨基、酰胺基、酰亚胺基或烃硫基;Y1和Y2可以彼此键合形成环;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9和A10彼此独立地为氢原子、卤素原子、羟基、腈基、醛基、烷基、芳烷基、芳基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、氨基、酰胺基、酰亚胺基或烃硫基;m为0或1;和n为1到20的整数。
2.根据权利要求1的聚合物,其中由式(1)表示的单元包含由下式(2)表示的单元,其A7和A8之间的相对构型为反式:
其中式(2)中包含的所有符号与式(1)中定义的那些相同。
3.根据权利要求1的聚合物,其中该聚合物为具有大于25mol%对映双全同立构三单元组的聚合物,由式(1)表示的单元的总量为100mol%。
4.根据权利要求1的聚合物,其中该聚合物为具有大于25mol%叠同双全同立构三单元组的聚合物,由式(1)表示的单元的总量为100mol%。
5.根据权利要求1的聚合物,其中该聚合物为具有大于25mol%对映双间同立构三单元组的聚合物,由式(1)表示的单元的总量为100mol%。
6.根据权利要求1的聚合物,其中该聚合物为具有大于25mol%叠同双间同立构三单元组的聚合物,由式(1)表示的单元的总量为100mol%。
7.一种制备具有由下式(1)表示的重复单元的聚合物的方法,包括聚合由下式(3)表示的化合物的步骤:
其中Y1为含醚键烷基、含醚键芳烷基、烷氧基、芳烷氧基或芳氧基;Y2为氢原子、卤素原子、羟基、腈基、醛基、烷基、芳烷基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、氨基、酰胺基、酰亚胺基或烃硫基;Y1和Y2可以彼此键合形成环;A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7、A8、A9和A10彼此独立地为氢原子、卤素原子、羟基、腈基、醛基、烷基、芳烷基、芳基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基、芳氧基、氨基、酰胺基、酰亚胺基或烃硫基;Z为-(CH2)n-1-(CA9A10)mH的基团;式(3)的右上方所示的两条波形线表示它们构型的变化;和m为0或1;和n为1到20的整数。
8.根据权利要求7的制备聚合物的方法,其中在通过使过渡金属化合物与有机铝化合物和/或硼化合物接触形成的聚合催化剂存在下进行聚合。
9.根据权利要求8的制备聚合物的方法,其中过渡金属化合物为由下式[I]表示的化合物:
其中M2为元素周期表10族的过渡金属原子;R3和R4彼此独立地为氢原子、卤素原子、烷基、芳烷基、芳基、甲硅烷基、甲硅烷氧基、烷氧基、芳烷氧基或芳氧基;R5和R6彼此独立地为具有1到30个碳原子的烃基;R7和R8彼此独立地为氢原子或具有1到20个碳原子的烃基,并且R7和R8可以彼此键合形成环。
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