[发明专利]液晶显示面板与光学补偿膜的制造方法

权利要求书

1.一种液晶显示面板，包括：

一第一基板，具有一第一反应性介相层与配置于该第一反应性介相层上的一第一配向膜；

一第二基板，配置于该第一基板的对向，且该第二基板具有一第二反应性介相层与配置于该第二反应性介相层上的一第二配向膜；以及

一液晶层，配置于该第一配向膜与该第二配向膜之间。

2.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，该第一反应性介相层与该第二反应性介相层的相位差值分别是介于340纳米至380纳米。

3.如权利要求1所述的液晶显示面板，其特征在于，该第一反应性介相层与该第二反应性介相层的厚度分别是介于1微米至40微米之间。

4.如权利要求3所述的液晶显示面板，其特征在于，该第一反应性介相层与该第二反应性介相层的厚度分别是介于2微米至5微米之间。

5.一种液晶显示面板，包括：

一第一基板，具有一第一反应性介相层与配置于该第一反应性介相层上的一第一配向膜；

一第二基板，配置于该第一基板的对向，且该第二基板具有一第二反应性介相层与配置于该第二反应性介相层上的一第二配向膜；以及

一液晶层，配置于该第一配向膜与该第二配向膜之间；

其中该第一反应性介相层与该第二反应性介相层的材质包括化学式(I)所示的化合物：

6.一种液晶显示面板，包括：

一第一基板，具有一第一反应性介相层与配置于该第一反应性介相层上的一第一配向膜；

一第二基板，配置于该第一基板的对向，且该第二基板具有一第二反应性介相层与配置于该第二反应性介相层上的一第二配向膜；以及

一液晶层，配置于该第一配向膜与该第二配向膜之间；

其中该第一反应性介相层与该第二反应性介相层的材质包括化学式(II)所示的化合物：

式(II)中，R2表示官能基的统称。

7.如权利要求6所述的液晶显示面板，其特征在于，该第一反应性介相层与该第二反应性介相层的R2官能基包括氢基、氧基、烷基。

8.一种液晶显示面板，包括：

一第一基板，具有一第一反应性介相层与配置于该第一反应性介相层上的一第一配向膜；

一第二基板，配置于该第一基板的对向，且该第二基板具有一第二反应性介相层与配置于该第二反应性介相层上的一第二配向膜；以及

一液晶层，配置于该第一配向膜与该第二配向膜之间；

其中该第一反应性介相层与该第二反应性介相层的材质包括化学式(III)所示的化合物：

9.一种液晶显示面板，包括：

一第一基板，具有一第一反应性介相层与配置于该第一反应性介相层上的一第一配向膜；

一第二基板，配置于该第一基板的对向，且该第二基板具有一第二反应性介相层与配置于该第二反应性介相层上的一第二配向膜；以及

一液晶层，配置于该第一配向膜与该第二配向膜之间；

其中该第一反应性介相层与该第二反应性介相层的材质包括化学式(IV)所示的化合物：

10.一种光学补偿膜的制造方法，适于在一液晶显示面板的一基板上形成一光学补偿膜，该补偿膜的制造方法包括：

提供一基板；

在该基板上形成一液态的反应性介相层；以及

交联化该液态的反应性介相层，以形成一反应性介相层。

11.如权利要求10所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，在交联化该液态的反应性介相层之前，还包括对于该液态的反应性介相层进行一退火制程或一干燥制程。

12.如权利要求10所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，交联化该液态的反应性介相层的方法包括一紫外光交联化制程或一热交联化制程。

13.如权利要求12所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，该紫外光交联化制程所使用紫外光的波长介于200纳米至400纳米。

14.如权利要求10所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，形成该液态的反应性介相层的方法包括一旋转涂布制程或一刮刀涂布制程。

15.如权利要求10所述的光学补偿膜的制造方法，其特征在于，该基板包括一薄膜晶体管阵列基板或一彩色滤光基板。