[发明专利]一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法

说明书

【技术领域】

本发明涉及一种电阻式触摸屏，尤其涉及一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法。

【背景技术】

在国外触摸屏幕技术已经非常成熟，在欧美如Micro Touch、Elo及Dynapro等厂商都有近二十年的历史；日本Nisha、Gunze也有近十年以上的经验。而在产品的技术发展上，东西方各有不同，欧美的触摸屏以电容式、表面声波式、红外式为发展方向，产品以大尺寸居多；日本、韩国、台湾等触摸屏厂商以电阻式为主要发展方向，产品以中小尺寸为主要目标。

电阻式触摸屏又分为薄膜/薄膜、薄膜/玻璃、玻璃/玻璃、薄膜/薄膜/PC等几种类型，其中又以薄膜/玻璃的应用最为广泛。现有技术的电阻式触摸屏结构，如图1所示：一般由上片基材1和下片基材2构成，上片基材1和下片基材2可以是薄膜(Film)或者玻璃(Glass)，上片基材1和下片基材2的内表面分别设有上导电层3和下导电层4，在上导电层3和下导电层4之间分布有一些隔离点(Dot spacer)5，将上下导电层表面隔开绝缘。当触摸屏表面受到的压力(如通过笔尖或手指进行按压)足够大时，相互绝缘的上下导电层就在触摸点位置有了一个接触，下导电层接通X或Y轴方向的均匀电压场，使得上导电层的输出由零变为非零，这种接通状态被控制器侦测到后，进行模拟数字转换(Analogue Digital Converter，ADC)，即将电压转换成坐标位置，实现触摸点定位。

这种结构中隔离点5的距离、高度、大小决定了触摸屏的敏感度，通常这些隔离点采用印刷的方法制取。但是，印刷法网版容易堵塞，造成隔离点缺失、大小不一、高度不均等不良，严重影响产品的响应度及性能。

【发明内容】

本发明所要解决的技术问题是提供一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法，使隔离点的分布、大小、高度可控。

为实现上述目的，本发明是通过以下技术方案实现的：

一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法，包括以下步骤：

S1.玻璃基板清洗；

S2.在玻璃基板上形成透明绝缘层；

S3.将经过步骤S2后的玻璃基板通过光罩对透明绝缘层进行曝光，所述光罩上排布有多个孔，所述孔经设置用于在曝光时通过光并使光照射在透明绝缘层上；所述光罩上孔的直径为40微米，间距为2毫米，呈棱形排布；所述曝光时的曝光量为100mj/cm²，光罩离玻璃基板表面的间隙为200-250微米；

S4.对曝光后的玻璃基板用显影液进行显影处理，在玻璃基板上形成隔离点点阵。

进一步地，在所述步骤S1中，玻璃基板清洗的方法包括如下步骤：

S11.紫外线预处理：去除玻璃基板表面的有机物物质；

S12.碱液清洗：去除玻璃基板表面的大颗粒物质；

S13.超声波清洗：去除玻璃基板表面的小颗粒物质和碱离子；

S14.高压纯水喷淋：进一步去除玻璃基板表面的颗粒物质和残留离子；

S15.风刀处理：初步去除玻璃基板表面的水和溶剂；

S16.红外处理：进一步去除玻璃基板表面的水和溶剂。

更进一步地，在所述步骤S12中，所述碱液清洗的碱洗剂为0.5～1.0％(重量份)的碱金属氢氧化物溶液或者碱金属碳酸盐溶液。

优选地，所述碱金属氢氧化物溶液为氢氧化钾溶液，所述碱金属碳酸盐溶液为碳酸钠溶液。

优选地，所述高压纯水喷淋的压力为6MPa-8MPa。

优选地，所述红外处理的温度为135度-150度。

作为一种实施方式，在所述步骤S2中，通过涂布的方式在玻璃基板上形成透明绝缘层，包括以下步骤：

S21.刮刀涂布：在玻璃表面初步形成均匀透明树脂膜；

S22.旋转涂布：保持均匀的转速，在玻璃基板表面形成一膜厚更加均匀的透明绝缘层；

S23.将涂布好透明绝缘层的玻璃基板，进行干燥和预烘烤，除去玻璃基板表面的溶剂。

更进一步地，在所步骤S22中，所述的透明绝缘层膜厚为8-10微米，旋转涂布的转速为400rpm。

作为另一种实施方式，在所述步骤S2中，通过涂布的方式在玻璃基板上形成透明绝缘层，包括以下步骤：

S21’.刮刀涂布：在玻璃表面初步形成均匀透明树脂膜；

S22’.旋转涂布：采用先加速后匀速最后减速的方式，在玻璃基板表面形成一膜厚更加均匀的透明树脂膜即透明绝缘层，所述加速、匀速、减速的时间比为3秒∶7秒∶3秒；

S23’.将涂布好透明绝缘层的玻璃基板，进行干燥和预烘烤，除去玻璃基板表面的溶剂。