[发明专利]一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法

权利要求书

1.一种电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于包括以下步骤：

S1.玻璃基板清洗；

S2.在玻璃基板上形成透明绝缘层；

S3.将经过步骤S2后的玻璃基板通过光罩对透明绝缘层进行曝光，所述光罩上排布有多个孔，所述孔经设置用于在曝光时通过光并使光照射在透明绝缘层上；所述光罩上孔的直径为40微米，间距为2毫米，呈棱形排布；所述曝光时的曝光量为100mj/cm²，光罩离玻璃基板表面的间隙为200-250微米；

S4.对曝光后的玻璃基板用显影液进行显影处理，在玻璃基板上形成隔离点点阵。

2.如权利要求1所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：在所述步骤S1中，玻璃基板清洗的方法包括如下步骤：

S11.紫外线预处理：去除玻璃基板表面的有机物物质；

S12.碱液清洗：去除玻璃基板表面的大颗粒物质；

S13.超声波清洗：去除玻璃基板表面的小颗粒物质和碱离子；

S14.高压纯水喷淋：进一步去除玻璃基板表面的颗粒物质和残留离子；

S15.风刀处理：初步去除玻璃基板表面的水和溶剂；

S16.红外处理：进一步去除玻璃基板表面的水和溶剂。

3.如权利要求2所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：在所述步骤S12中，所述碱液清洗的碱洗剂为0.5～1.0％(重量份)的碱金属氢氧化物溶液或者碱金属碳酸盐溶液。

4.如权利要求3所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：所述碱金属氢氧化物溶液为氢氧化钾溶液，所述碱金属碳酸盐溶液为碳酸钠溶液。

5.如权利要求2所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：所述高压纯水喷淋的压力为6MPa-8MPa。

6.如权利要求2所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：所述红外处理的温度为135度-150度。

7.如权利要求1所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：在所述步骤S2中，通过涂布的方式在玻璃基板上形成透明绝缘层，包括以下步骤：

S21.刮刀涂布：在玻璃表面初步形成均匀透明树脂膜；

S22.旋转涂布：保持均匀的转速，在玻璃基板表面形成一膜厚更加均匀的透明树脂膜即透明绝缘层；

S23.将涂布好透明绝缘层的玻璃基板，进行干燥和预烘烤，除去玻璃基板表面的溶剂。

8.如权利要求7所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：在所步骤S22中，所述的透明绝缘层膜厚为8-10微米，旋转涂布的转速为400rpm。

9.如权利要求1所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：在所述步骤S2中，通过涂布的方式在玻璃基板上形成透明绝缘层，包括以下步骤：

S21’.刮刀涂布：在玻璃表面初步形成均匀透明树脂膜；

S22’.旋转涂布：采用先加速后匀速最后减速的方式，在玻璃基板表面形成一膜厚更加均匀的透明绝缘层，所述加速、匀速、减速的时间比为3秒∶7秒∶3秒；

S23’.将涂布好透明绝缘层的玻璃基板，进行干燥和预烘烤，除去玻璃基板表面的溶剂。

10.如权利要求1、7、8、9中任一项所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：所述透明绝缘层为透明树脂膜，由丙烯酸树脂、分散剂和感光化合物组成。

11.如权利要求1所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：在所步骤S4中，所述显影液的温度为28度-30度，喷淋时间为40秒；所述显影液采用碳酸钠和氢氧化钾的混合物与水配制而成的溶液。

12.如权利要求1所述的电阻式触摸屏隔离点的制作方法，其特征在于：在所述步骤S4之后，还包括以下步骤S5：将显影后玻璃基板表面进行烘烤固化，所述烘烤的温度为200度-250度，烘烤的时间为40分钟。