[发明专利]一种医用敷料及其制备方法和用途无效

专利信息
申请号: 200810047400.2 申请日: 2008-04-21
公开(公告)号: CN101284145A 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 杨建红;吴斌 申请(专利权)人: 武汉锐尔生物科技有限公司
主分类号: A61L15/28 分类号: A61L15/28
代理公司: 武汉华旭知识产权事务所 代理人: 刘荣
地址: 430070湖北省武汉市洪山*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 医用 敷料 及其 制备 方法 用途
【权利要求书】:

1.一种医用敷料,其特征在于:敷料包括质量百分比浓度为1%~100%的甲壳素衍生物、壳聚糖衍生物或水溶性甲壳素的一种或几种,质量百分比浓度为0~99%的水和质量百分比浓度为0~60%的填料。

2.根据权利要求1所述的医用敷料,其特征在于:敷料呈水胶体状、膜状、海绵状或为无纺布敷料,敷料中含有甲壳素衍生物时,膜状敷料、海绵状敷料或无纺布敷料中甲壳素衍生物的质量百分比浓度为5~10%。

3.根据权利要求1所述的医用敷料,其特征在于:敷料中至少含有一种分子量大于20万的甲壳素衍生物、壳聚糖衍生物或水溶性甲壳素,且甲壳素衍生物为羧甲基甲壳素、羟乙基甲壳素或羟丙基甲壳素,壳聚糖衍生物为羧甲基壳聚糖、羟乙基壳聚糖或羟丙基壳聚糖,其中羧甲基壳聚糖分子量为1000~2000,000,脱乙酰度为70%~99%,羧甲基化度为0.5~1.5,6位羟基的取代度大于0.5;羧甲基甲壳素分子量为1000~3000,000,脱乙酰度为5%~60%,羧甲基化度在为0.5~1.2,6位羟基的取代度大于0.5;羟乙基壳聚糖、羟丙基壳聚糖、羟乙基甲壳素或羟丙基甲壳素分子量在1000~2000,000之间,6位羟基的取代度取代度为0.4~1.0;水溶性甲壳素分子量为1000~2000,000,脱乙酰度为40%-60%。

4.根据权利要求1所述的医用敷料,其特征在于:填料为甘油、丙二醇、丁二醇或PEG400中的1种或多种。

5.根据权利要求1所述的医用敷料,其特征在于:敷料pH值为6~7.5。

6.一种权利要求1所述医用敷料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:将甲壳素衍生物、壳聚糖衍生物或水溶性甲壳素的一种或几种分别溶于水配成质量百分比浓度为0.5~10%的水溶液,将得到的一种溶液搅拌均匀或者分别得到的几种水溶液混合均匀,再按质量百分含量为0~15%加入填料,充分混合均匀,减压脱泡得到水胶体敷料。

7.根据权利要求6所述医用敷料的制备方法,其特征在于:将水胶体敷料在不锈钢或塑料模具中流延或涂布成膜,在温度低于80℃下烘干或阴凉自然干燥制得膜状敷料;或者将水胶体敷料装于不锈钢或塑料模具中,于-10℃~-60℃冷冻,然后置于真空冷冻干燥机冷冻干燥得到海绵状敷料;或者将水胶体敷料室温下在体积百分比为30%~100%的乙醇、丙酮或乙醚混合液的水溶液或者在含有质量百分比为1~10%CaCl2或Ca(HCO3)2水溶液的乙醇、丙酮或乙醚的混合液的凝固液中采用溶液纺丝法制备得到纤维,将纤维切成3-5cm的丝束经开纤梳理成为棉絮状纤维,再碾压打片制得无纺布敷料。

8.根据权利要求7所述医用敷料的制备方法,其特征在于:所用敷料中至少含有一种分子量大于20万的甲壳素衍生物、壳聚糖衍生物或水溶性甲壳素,且甲壳素衍生物为羧甲基甲壳素、羟乙基甲壳素或羟丙基甲壳素,壳聚糖衍生物为羧甲基壳聚糖、羟乙基壳聚糖或羟丙基壳聚糖,其中羧甲基壳聚糖分子量为1000~2000,000,脱乙酰度为70%~99%,羧甲基化度为0.5~1.5,6位羟基的取代度大于0.5;羧甲基甲壳素分子量为1000~3000,000,脱乙酰度为5%~60%,羧甲基化度在为0.5~1.2,6位羟基的取代度大于0.5;羟乙基壳聚糖、羟丙基壳聚糖、羟乙基甲壳素或羟丙基甲壳素分子量在1000~2000,000之间,取代度为0.4~1.0;水溶性甲壳素分子量为1000~2000,000,脱乙酰度为40%-60%。

9.根据权利要求7所述医用敷料的制备方法,其特征在于:填料为甘油、丙二醇、丁二醇或PEG400中的1种或多种。

10.权利要求1所述的医用敷料用于临床上手术切口、取皮区、烧伤、烫伤、溃疡或褥疮等皮肤创伤的修复。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉锐尔生物科技有限公司,未经武汉锐尔生物科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810047400.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top