[发明专利]高温超导涂层导体用的康铜合金基带无效

专利信息
申请号: 200810040026.3 申请日: 2008-07-01
公开(公告)号: CN101302590A 公开(公告)日: 2008-11-12
发明(设计)人: 范峰;鲁玉明;蔡传兵;刘志勇;高波;应利良 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C22C9/06 分类号: C22C9/06;C22C1/02;C22F1/08;B21B37/16
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高温 超导 涂层 导体 铜合金 基带
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种无磁性、高电导的高温超导涂层导体用的康铜合金基带及其制备方法,属高电导金属合金材料制备工艺技术领域。

背景技术

高温超导涂层导体技术是在金属基底上辅以缓冲层生长双轴织构的YBa2Cu3O7-x(YBCO)超导薄膜,以获得液氮温区高的、无损耗的超导载流能力。实现双轴织构是高温超导涂层导体的最关键技术,人们已发展了多个方法,其中在双轴织构的多晶金属带材上外延生长缓冲层,进而外延生长获得双轴织构的YBCO超导层是适于长带制备的常用技术。涂层导体用金属基体不仅要求材料易于形成良好的双轴织构,而且还要有较低的磁性和高的电导,其中低的磁性能够降低导线应用中的交流损耗,高的电导能够为导线提供失超保护。在以往大部分的工作主要集中在对纯镍以及微量参杂钨、锰、铬的镍基合金基带的研究上,其中适量掺杂的镍基合金在不显著降低材料织构的前提下,不仅克服了纯镍退火后机械性能聚降的缺点,而且大幅度地降低了镍的磁性。目前应用最广泛应用的涂层导体基带是Ni-5wt%W。然而它在高温超导的应用温度区仍然具有铁磁性,存在一定的交流损耗,从而限制了在交流传输中的应用。本发明提出了一种无磁性、高电导、能够形成高度立方织构的康铜合金基带及其制备方法。

发明内容

本发明的目的是提供一种无磁性、高电导、具有双轴织构或立方组织结构的康铜合金基带以及其制备方法。该具有高度立方织构的康铜合金能够满足在此合金基带上外延生长YBCO(YBa2Cu3O7-x)高温超导薄膜的需要。

本发明一种高温超导涂层导体用的康铜合金基带,该合金基带的化学成分及其重量百分比如下:

Cu 50~60%,Ni 38~48%,Mn 1~5%。

本发明一种高温超导涂层导体用的康铜合金基带的制备方法,其特征在于具有以下的工艺过程和步骤:

a.首先按上述化学成分配方行配料,采用高纯度的铜、镍、锰金属粉料;按传统常规的熔炼工艺进行熔炼,经过熔炼铸造形成铸锭;随后将铸锭经过锻造、压延形成坯锭。

b.将上述坯锭在500℃温度下,在Ar+4%Hz的混合气氛下进行30~60分钟的退火处理;

c.然后进行轧制,道次的轧制变形量为5~10%;总变形量为96~98%;得到厚度约为0.1mm的合金基带;

d.将上述合金基带再用丙酮、酒精进行超声波情洗,以除去油污;然后在Ar+4%Hz的混合气氛下进行退火,退火温度为700~1000℃,退火时间为30~90分钟,最后获得高温超导涂层导体适用的具有双轴织构的康铜合金基带。

本发明方法制得的康铜合金基带的特点如下:

本发明的合金基带材料其居里温度可低达20K左右,液氮温区(77K)表现为顺磁性;而此温度下的纯镍及常用的涂层导体基带Ni-5wt%W均表现为铁磁性。本发明的康铜个在77K下的电阻率可小至1~7.5×10-9Ω·m,与铜相仿,其电导性能优越于纯镍和其他镍基合金。

附图说明

图1为本发明方法制得的康铜合金基带的X射线衍射(XRD)图。

图2为本发明方法制得的康铜合金基带1000℃退火处理(111)面角度扫描的半高宽图。

图3为本发明方法制得的康铜合金基带1000℃退火处理(111)面ω角度扫描的半高宽图。

图4为本发明方法制得的康铜合金基带的磁化强度和温度的关系曲线图。

图5为本发明方法制得的康铜合金基带的电阻率和温度的关系曲线图。

具体实施方式

现将本发明的具体实施例叙述于后。

实施例1

本实施例中采用高纯度的铜、镍、锰金粉料为原料。

所用铜、镍、锰金属粉料的重量百分配比为:Cu 60%,Ni 38%,Mn 2%。

本实施例中,康铜合金基带的制备过程和步骤如下:

(1)按上述化学成分配方进行配料,称取铜粉600g,镍粉380g和锰粉20g,配成混合料;按传统常规的熔炼工艺进行熔炼,经过熔炼铸造形成铸锭;随后将铸锭经过锻造、压延形成坯锭。

(2)将上述坯锭在500℃温度下,在Ar+4%Hz的混合气氛下进行50分钟退火处理;

(3)然后进行轧制,道次的轧制变形量为5%,总变形量为98%;得到厚度为0.1mm的合金基带;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810040026.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top