[发明专利]一种均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法无效
申请号: | 200810032167.0 | 申请日: | 2008-08-27 |
公开(公告)号: | CN101342597A | 公开(公告)日: | 2009-01-14 |
发明(设计)人: | 李昆;李洪桂;黄巍;李笃信 | 申请(专利权)人: | 中南大学 |
主分类号: | B22F9/24 | 分类号: | B22F9/24 |
代理公司: | 长沙市融智专利事务所 | 代理人: | 颜勇 |
地址: | 410083湖*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 均匀 弥散 纳米 cu 复合 制备 方法 | ||
1、一种均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于:
通过可溶性铜盐的铜离子与可溶性钨酸盐中的钨酸根离子作用形成难溶钨酸铜盐从水溶液中析出,形成W、Cu以分子混合的前驱体,再还原该前驱体获得纳米级W-Cu复合粉。
2、如权利要求1所述的均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于:所述的可溶性钨酸盐为钨酸铵或钨酸钠,所述的可溶性铜盐为氯化铜、硝酸铜、硫酸铜或醋酸铜。
3、如权利要求1所述的均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于,所述的铜离子可以Cu2+或Cu(NH4)42+的形式存在。
4、如权利要求1所述均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于,从水溶液中析出难溶钨酸铜盐的方法为沉淀或蒸发结晶。
5、如权利要求1所述均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于,所述的形成前驱体的过程为:将可溶性钨酸盐和可溶性铜盐化合物或溶液配制成的母液直接沉淀或在水浴中加热至80~100℃然后保温,母液中均匀析出沉淀物,将得到的沉淀经过滤清洗后干燥至质量恒定,得到前驱体粉末。
6、如权利要求1所述均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于,从所述前驱体中采用直接氢还原方法获得纳米级W-Cu复合粉。
7、如权利要求6所述均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于,所述的直接氢还原方法为将前驱物放入硅棒还原炉中先在450℃通H2还原,再在700-800℃通H2还原。
8、如权利要求1所述均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于,所述的水溶液的PH值为2~10。
9、如权利要求8所述均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于,所述的水溶液的PH值优选为8~10。
10、如权利要求1~9任一项所述均匀弥散的纳米级W-Cu复合粉制备方法,其特征在于,所述的钨酸根离子存在于钨酸盐溶液中,该钨酸盐溶液的浓度按WO3计量为60~360g/L,溶液中铜和钨的mol比为2∶1-1∶1。
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