[发明专利]自动控制电镀废水处理工艺

说明书

发明领域：本发明涉及到一种电镀污水治理，尤其是涉及到一种将电镀过程中废水循环回用的工艺。

背景技术：

由于电镀行业镀种多，其排放出的废水大部分都含有重金属离子(如Cr⁶⁺)，其毒性大，属国家一类危险废物，若未加于处理任意排放，将对生态环境产生极为严重的破坏。随着目前环境保护要求日益严格，电镀过程的清洁化生产已经变得十分迫切。

传统的电镀废水治理方法通常采用的是：将电镀废水混合液进行还原高价铬、水解沉淀；或者将对含铬废水进行还原，然后与酸碱清洗液混合，一道集中进行沉淀，使排出水达到国家的排放标准。这是一种“先排放、后治理”的处理思路。但是它仍然给我们的环境带来了日益严重的污染，并存在一系列的不足：1.这种工艺处理流程复杂，处理成本相当高；2.即使处理达标，它们仍将排放大量的污染物，给人类的生存环境造成不断加剧的破坏；3.这些排放的“有害物质”又是价格昂贵的金属离子或电镀添加剂，其排放造成了有价资源的严重损失；4.这种传统工艺的用水量也十分巨大，它不但导致生产成本的升高，还使我们日益紧张的水资源更为紧张。

发明内容：

本发明的目的就是克服了现有技术中的不足，提供了一种自动控制的电镀废水处理工艺，通过对各阶段的PH进行调控，使部分危害较大的金属离子如Cr⁶⁺达到最佳的还原状态，并使重金属离子中和反应以达到最佳的沉淀状态，从而确保中和反应后的重金属离子形成沉淀物更容易分离出来。

本发明是这样实现的，一种自动控制电镀废水处理工艺如下：

(1)对Cr⁶⁺进行氧化还原反应：氧化还原反应在氧化还原罐内分两步进行，先将含Cr⁶⁺废水加H₂SO₄进行酸化处理，并通过PH计来控制H₂SO₄的投加；然后加入还原剂Na₂HSO₃溶液进行还原反应，通过罐上ORP计来自动控制Na₂HSO₃溶液的投加，当罐内的电位达到315mv时，停止投加Na₂HSO₃溶液；还原反应结束后，自动将废水排入第一中和反应罐内进行中和处理；

(2)中和反应：中和反应分两步进行，先将NaOH注入第一中和反应罐中调整废水的PH值，使废水中的Cr³⁺、Cu²⁺等离子形成Cr(OH)₃或Cu(OH)₂后自动将废水排入第二中和反应罐内进行中和处理；继续将NaOH注入第二中和反应罐中再次对废水的PH值进行调整，使废水中的Ni²⁺形成Ni(OH)₂并达到最佳沉淀状态，最后将中和反应后的废水注入混凝反应罐中进行混凝反应；

(3)混凝反应：先将7768型混凝剂配置成5‰的水溶液，通过电磁流量计来控制混凝剂注入混凝反应罐的流量大小，在混凝反应的同时将混凝反应后的废水注入沉淀槽中进行固、液分离；

(4)固、液分离：将沉淀槽中的污泥从沉淀槽底定期排出，并将沉淀后的液体从沉淀槽的顶部排出进行后续处理；

(5)后续处理：将液体先后通过过渡槽、过滤器和最终中和反应罐以确保最终排放水能稳定达到国家排放标准。

本发明与现有技术相比具有如下优点：

由于本发明是通过将电镀废水分类收集，然后分别进行处理、再生和返回到电镀系统中重新使用，从而有效地完全避免了有害的铬离子和其它重金属离子的排放，实现了清洁生产；而且由于采用自动化控制系统，操作人员劳动强度大大减少，只需一人就可，同时能够大大减少各种添加剂的用量，还因为有相当一部分已返回电镀系统循环使用，从而达到大幅度减少水费降低生产成本的目的。

附图说明：

图1为本发明所述自动控制电镀废水处理工艺流程图

图2为本发明所述自动控制电镀废水处理设备系统图1.含铬废水储槽3.酸碱废水储槽5.氧化还原罐6.第一中和反应罐7.第二中和反应罐8.混凝反应罐9.沉淀槽10.过渡槽11.过滤器12.最终中和反应罐13.硫酸罐14.亚硫酸氢钠罐15.氢氧化钠罐16.混凝剂罐17.ORP计18.电磁流量计19.计量泵20.搅拌器

具体实施方式：