[发明专利]料架可旋转立式真空高压气淬炉有效

专利信息
申请号: 200810012387.7 申请日: 2008-07-18
公开(公告)号: CN101319272A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 杨建川;石岩;曲绍芬;张晓东;赵建业;顾景文 申请(专利权)人: 沈阳恒进真空科技有限公司
主分类号: C21D1/62 分类号: C21D1/62;C21D1/613;C21D1/773
代理公司: 沈阳科威专利代理有限责任公司 代理人: 崔红梅
地址: 110168辽*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 料架可 旋转 立式 真空 压气
【说明书】:

技术领域

发明涉及冶金设备中的高压气淬炉,一种料架可旋转的立式真空高压气淬炉。

背景技术

在军工、航天等加工技术领域,对热处理工艺的工件受热均匀性要求越来越高。然而目前使用的真空高压气淬炉,在高温高真空作业时,工件在炉内是静止不动的,由于炉温存在偏差,所以工件受热也很难保证一致。

发明内容

本发明的目的是提供一种料架可旋转的立式真空高压气淬炉,使工件在加热时旋转,可保证工件受热均匀性,提高产品质量。

料架可旋转的立式真空高压气淬炉,为立式下开门、底装料式真空炉,包括以工控机及PLC为主的控制系统,其特征是下炉门内侧内圆设旋转平台支座,支座上同轴安装旋转圆盘、料架,旋转圆盘下部同轴安装大齿轮,偏心设置的旋转驱动机构上的小齿轮与大齿轮周啮合,驱动旋转圆盘转动,使承载工件的料架可以绕垂直中心轴旋转;料架根部设较厚隔热层,加热室下屏保温层为环形、两者之间有环台形间隙;转盘及其上的隔热层、料架,以及旋转驱动机构都随炉门一同升降;真空炉采用PLC技术控制,作业时的开门装料、抽空、加热、料架旋转、充气冷却动作是连锁控制的,避免出现误动作,确保设备可靠运行。

本发明的料架可旋转的真空气淬炉,在高温状态装载工件情况下,料架能绕垂直中心轴旋转,不仅能够保证各部位的工件受热均匀一致,该发明还解决了由于高温时保温隔热层变形带来旋转时造成刮碰、保温层散热可能影响动密封的问题,使该设备在真空、正压、动密封、保温、冷却等各个方面性能都得到了较好的保证。

炉壳体是压力容器,冷却时,可承受炉内0.6MPa的气体压力。

该设备的主要技术性能

极限真空度:6.7×10-4Pa

工作真空度:133~10-3Pa

压升率:≤0.5Pa/h

冷却气体压力:≤0.6MPa(abs)

控制方式:工控机和PLC控制及管理,可自动/手动

最大装载量:500KG

附图说明

图1是料架可旋转立式真空气淬炉的结构示意图;

图2是旋转驱动机构的动密封结构剖视图;

图3是控制流程框图;

具体实施方式

料架可旋转立式真空气淬炉,其结构见图1:包括以工控机及PLC为主的控制系统,设备采用立式下开门、底装料式真空炉,加热室安装在上炉体13中,上炉体13上部有冷却风机14,并有抽空管路15与抽真空设备相通,加热室由中间的圆筒状及上下圆形保温层组成,其特征是下炉门10内侧内圆固定旋转平台支座9,支座9上同轴安装旋转圆盘6、料架8,旋转圆盘6下部同轴安装大齿轮5,偏心设置的旋转驱动机构1,其驱动主轴19固定小齿轮3,小齿轮3与大齿轮5周啮合,驱动旋转圆盘6转动,使承载工件的料架8可以绕垂直中心轴4旋转;料架8上方为放置工件的工作区,料架8根部的旋转圆盘6上设较厚隔热层7,加热室下屏保温层11为与筒壁相接的外周环形、与内圆的较厚隔热层7上表面持平,两者之间轴向有环台形间隙。旋转圆盘6及其上的隔热层7、料架8以及旋转驱动机构1都随下炉门10一同升降。真空炉采用PLC技术控制,作业时的开门装料、抽空、加热、料架旋转、充气冷却等所有动作是连锁控制的,避免出现误动作,确保设备可靠运行。

隔热层7比下屏保温层11厚,且下部大形成凸台,凸台伸入加热室下屏保温层11的内圆孔中,轴向形成有直角弯的环台间隙,该间隙既是冷却时冷却气体的通道,也防止高温时保温层变形致使旋转时旋转的隔热层7与环形下屏保温层11互相刮碰,并且弯道间隙可以减少辐射热量传出,增强保温效果。旋转隔热层7与件11之间的间隙与上部回风口的面积之和要满足通过冷却气体量的要求。

旋转圆盘6座在旋转平台支座9上,旋转平台支座9上有一圈半圆形钢球滚道,里面装满钢球。圆盘6旋转时在钢球上滚动,这一结构保证圆盘转动平稳和足够的承载能力。

圆盘的转动由一大一小两啮合的齿轮3,5传递的,这对齿轮啮合起到减速的作用同时,也大大减少旋转圆盘向小齿轮轴的传热,避免密封部位过热而影响密封的可靠性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳恒进真空科技有限公司,未经沈阳恒进真空科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810012387.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top