[发明专利]用于在真空室内移动托架的结构

说明书

技术领域

本发明涉及用于在室内(具体而言真空室内)移动托架的结构，其中此托架形成为板形并借助于驱动辊可直线移动。

背景技术

在根据PECVD(PECVD＝等离子体增强化学汽相沉积)原理进行操作的真空涂覆设备中，经由引入到设备中并被源离子化的气体来直接进行涂覆。等离子体在源与衬底或布置在衬底后方的电极之间燃烧。

衬底通常紧固在托架上，托架在辊子上移动通过涂覆设备。这些辊子优选地由位于真空涂覆设备外的驱动系统来驱动，使得不会在真空设备中产生污染。

用于位于室内的轴的驱动结构是公知的(US 2005/0206260 A1)由位于室外部的电动机通过磁性耦合来驱动该轴。

而且，在具有数个传输辊的真空涂覆设备中用于衬底的传输结构是公知的(DE 103 28 273 A1)。在此结构中，驱动器以及传输辊位于涂覆设备的抽空区域。

包括用于工件的传输系统的处理室也是公知的(GB 2 171 119 A)。此传输系统包括通过磁性耦合装置驱动的缸体。这里，该磁性耦合装置用作布置在室内的提升件上的两组传输辊之间进行切换。

还公知的是在真空设备中用于移动安装部件的结构，其包括在容器内的连接元件，所述连接元件部分地由磁性材料构成，其中容器的外侧也布置有磁性材料，其经由摩擦连接与内磁性材料专有地接触(DE 102 27 365＝EP 1 387 473 A2)

在公知的用于处理层叠衬底(例如硅盘片)的方法中，在用于制造微电结构的竖直定向时，设置驱动辊，其被压到圆形硅盘片的三个位置上(US 6 251 551 B1)。通过驱动辊可以使这些硅盘片绕其轴旋转。但是，借助于输送带来进行对这些硅盘片的进一步直线传输。

为了板形和圆形托架的旋转运动，公知的提供数个辊，其配合在托架的边缘上(JP 2002 110763 A)。但是，通过轨道进行托架的直线运动。

在US 2002/0060134 A1中公开了具有螺旋磁性耦合装置的磁性托架结构。但是，该结构没有提供用于辊的提升机构。

EP 1 648 079 A2描述了用于在被壁分开的物体之间进行移动的传输的系统。此系统不适用于传输托架。

最后，具有用于传输层叠衬底的传输辊的真空涂覆设备是公知的，其包括位于真空涂覆设备外部的驱动系统和在驱动器与至少一个传输辊之间的至少一个磁性耦合装置(未公开的欧洲专利申请EP 1 870 487)。

发明内容

本发明解决了在至少一个方向上在室内自动移动物体的问题。

此问题根据本发明第一方面的特征来解决。

因此，本发明涉及一种用于在真空室内移动托架的结构。此托架形成为板形并被布置为其狭窄侧边缘位于由驱动系统驱动的辊上。优选地利用磁性耦合装置作为间接驱动器，其部分位于真空室内并部分位于真空室外，磁性耦合装置的位于真空室外的部件由电动机驱动。在沿着竖直方向作用的力的帮助下，磁性耦合装置的两个部件可以相对于彼此发生位移。此外，托架的水平位移也是可能的。

本发明获得的一个优点包括，真空涂覆设备内的托架可以与承载托架的驱动辊分离。本发明的另一个优点包括托架还可以侧向位移。

附图说明

本发明的示例实施例在附图中示出并将在一下详细描述。在附图中：

图1是处理室的总体视图，

图2是穿过图1的处理室的纵向截面A-A，

图3是在第一位置上根据图2的局部放大图，

图4是在第二位置上根据图2的局部放大图，

图5是穿过图1的处理室的纵向截面B-B的一部分。

具体实施方式

图1以侧视图示出了处理室1。除了该处理室1之外，还可以布置未示出的多个室。这些室可以是处理室和/或缓冲室。

处理室1搁置在支撑脚2、3上，齿轮机构29位于支撑脚2、3之间，并具有齿轮4、5；6、7和中间轴8、9。