[发明专利]用于设计集成电路的方法、设备以及计算机程序产品

权利要求书

1.一种设计集成电路的方法，所述方法包括以下步骤：

产生Voronoi图以表示集成电路的设计的关键面积，所述Voronoi图具有一个或多个等分线，其中所述一个或多个等分线中的每一个等分线表示在所述设计的一个或多个对应的边缘之间的相互作用；以及

视觉识别所述一个或多个对应的边缘的一部分和它们彼此的相互作用。

2.根据权利要求1的方法，其中视觉识别的所述步骤包括以下步骤：

分配所述一个或多个等分线中的每一个等分线以表示所述设计的一个或多个对应的边缘之间的所述相互作用。

3.根据权利要求2的方法，其中视觉识别的所述步骤包括以下步骤：

为所述一个或多个等分线中的每一个等分线产生可识别的区域，所述可识别的区域限定了彼此相互作用的所述设计的所述边缘的所述部分。

4.根据权利要求3的方法，其中视觉识别的所述步骤包括以下步骤：

视觉识别接触所述可识别的区域的所述相互作用的边缘的所述部分。

5.根据权利要求4的方法，其中视觉识别的所述步骤包括以下步骤：

在所述一个或多个相互作用的边缘之间产生矢量。

6.根据权利要求5的方法，其中产生矢量的所述步骤包括以下步骤：

根据预定的标准以表示所述相互作用的边缘的重要性的颜色显示所述矢量。

7.根据权利要求6的方法，其中所述预定的标准包括对相关的关键面积的预定的影响。

8.根据权利要求7的方法，其中对所述相关的关键面积的所述预定的影响与所述相关的关键面积的量值相关。

9.根据权利要求5的方法，其中视觉识别的所述步骤包括以下步骤：

基于预定的标准滤除所述矢量。

10.根据权利要求9的方法，其中所述预定的标准包括与预先已指定为将被滤除的边缘相互作用相关的矢量。

11.根据权利要求10的方法，其中所述边缘相互作用的所述指定包括以下步骤：

产生多边形标记以指定将被滤除的所述位置矢量。

12.根据权利要求6的方法，其中所述预定的标准为基于相对于邻近所述等分线的一个或多个邻近的Voronoi区域的所述关键面积的与所述相互作用的边缘相关的等分线的相对的关键面积贡献而分配到所述相互作用的边缘的关键面积值。

13.根据权利要求8的方法，其中所述关键面积值为所述邻近的Voronoi区域的所述关键面积乘以由所述相关的等分线所贡献的关键面积相对于界定所述一个或多个Voronoi区域的表示边缘相互作用的所有等分线的所述关键面积贡献的和的百分比。

14.根据权利要求13的方法，其中所述可识别的区域具有多边形形状。

15.一种用于设计集成电路的设备，所述设备包括：

装置，用于产生Voronoi图以表示集成电路的设计的关键面积，所述Voronoi图具有一个或多个等分线，其中所述一个或多个等分线中的每一个表示所述设计的一个或多个对应的边缘之间的相互作用；以及

装置，用于视觉识别所述一个或多个对应的边缘的一部分和它们彼此的相互作用。

16.根据权利要求15的设备，其中用于视觉识别的所述装置包括：

装置，用于分配所述一个或多个等分线中的每一个等分线以表示所述设计的一个或多个对应的边缘之间的所述相互作用。

17.根据权利要求16的设备，其中用于视觉识别的所述装置包括：

装置，用于为所述一个或多个等分线中的每一个等分线产生可识别的区域，所述可识别的区域限定了彼此相互作用的所述设计的所述边缘的所述部分。

18.根据权利要求17的设备，其中用于视觉识别的所述装置包括：

装置，用于视觉识别接触所述可识别的区域的所述相互作用的边缘的所述部分。

19.根据权利要求18的设备，其中用于视觉识别的所述装置包括：

装置，用于在所述一个或多个相互作用的边缘之间产生矢量。