[发明专利]多晶粒封装及其方法无效

专利信息
申请号: 200810000027.5 申请日: 2008-01-03
公开(公告)号: CN101232008A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 杨文焜 申请(专利权)人: 育霈科技股份有限公司
主分类号: H01L25/00 分类号: H01L25/00;H01L25/065;H01L23/48;H01L21/60
代理公司: 北京挺立专利事务所 代理人: 叶树明
地址: 中国台湾新竹县湖*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多晶 封装 及其 方法
【说明书】:

技术领域

发明系关于一种系统级封装(SIP)结构,尤系指一平板尺寸封装(PSP)之系统级封装

背景技术

于半导体组件领域,组件密度持续地增加且组件尺寸持续地缩小,封装或连结技术于上述之高密度组件上,日益重要。传统之覆晶黏着方式一数组锡凸块形成于晶粒表面上,锡凸块之构成,藉由使用一含锡之复合材料,经由钢板制作一意欲之锡凸块图案。芯片封装之功能包含功率分配、讯号分配、散热、保护以及芯片支撑。当半导体芯片变得更复杂时,传统封装方式,例如导线架封装、软板封装以及硬板封装技术,便无法应付更小尺寸、更高密度之IC封装需求。

现今之多晶粒模块或混合电路,一般而言,将晶粒黏着于一机板上且密封于一外壳中。此一般使用一多层基板,其中包含多层导线与界电层以三明治结构形成。多层基板传统上以迭片技术制作,其中金属导体各自形成于介电层上,接着将之堆栈并连结。

为满足高密度、高性能速度需求,故而发展系统单芯片(SIP)与系统级封装(SIP),而多晶粒模块广泛应用于多种功能芯片整合。多晶粒模块或多晶粒封装技术,提供多个黏着未封装集成电路(IC)(“裸晶”)方式于一基材上,其多个晶粒被”封装”于一整个密封材料或其它聚合物,多晶粒模块提供一高密度模块,其于计算机主板需求面积小,多晶粒模块亦提供整合性功能测试之好处。

更进一步,因为传统封装技术必须将晶圆切割成为个别晶粒,再各自封装,此技术于制程中消耗大量时间。因为芯片封装技术受到集成电路研发影响甚巨,故而当电路之面积成为必要,封装技术亦受其影响。由于以上所述,封装技术由球状矩阵(BGA)、倒装芯片(FC-BGA)、芯片尺寸级封装(CSP)演进至今日之晶圆尺寸级封装(WLP)。“晶圆尺寸级封装”顾名思义,整个封装与其晶圆上之内部联机,以及其它制程步骤,皆完成于分割(切割)成为芯片(晶粒)前。一般而言,当完成整个组装制程或封装制程后,单个的半导体封装于晶圆上被分开,成为多个半导体晶粒,此晶圆尺寸级封装具有极小面积,并具有极佳之电器特性。

晶圆尺寸级封装技术为一种先进封装技术,其晶粒于晶圆上同时制造并测试,其后将其切割分开并组装用于表面黏着产线。因为晶圆尺寸级封装技术利用整个晶圆,并非使用单颗芯片或晶粒,因此于执行切削制程前,封装与测试业已完成,更进一步,晶圆尺寸级封装技术之先进,使得打线、黏晶与填充等制程可省略。使用晶圆尺寸级封装技术,可降低制造成本,其尺寸与晶粒相当,此一技术可符合电子组件极小化之需求。

虽然晶圆尺寸级封装技术有上述之优点,某些因素依然影响此技术之接受度。例如,虽然晶圆尺寸级封装技术,可降低集成电路与基板连接间(增层build up layers-重布层RDL)之热膨胀系数(CTE)不匹配之影响,但是无法于芯片尺寸间允许更高球数。当组件尺寸为最小,其终端接点数将被限制。更进一步,此晶圆尺寸级封装,一复数个焊垫形成于半导体晶粒上作为重布,藉由传统重布制程,其中包含之重布层,接入一数组型态之多个金属垫。锡球直接熔接于金属垫上,藉由重布制程,其形成一数组型态。一般而言,所有堆栈之重布层形成,位于晶粒以及增层之上,因此增加封装厚度,此与降低芯片尺寸之需求相冲突。

因此本发明提出一以堆栈与相邻排列结构,作为WLP(板材晶圆)扇出之多晶粒封装。

发明内容

本发明于在其一观点中,提供一SIP封装其具有较高之可靠度以及较低之价格优势。

本发明提供一多芯片封装结构,其基板具有一芯片容纳凹槽形形成于基板之上表面,以及一通孔结构以构成电子线路,于通孔下方连结终端接点形成导通。一第一晶粒放置(黏着)于容纳槽中,一第一介电层形成于第一晶粒与此基板之上,并且将之填充入槽中晶粒与侧壁间隙。一第一重布导电层(RDL)形成于第一介电层之上,其中之第一RDL已通孔方式连结,第一芯片与终端接点。一第一介电层形成于第一RDL之上,以露出接点(其包含一金属垫层(UBM)结构,图中未显示)。一第二芯片被放置。一第三介电层形成于第二芯片之下(于主动面侧),一第二重布导电层(RDL)形成于此第三导电层之上,其中第二RDL与此第二芯片接合。一第四介电层形成于第二RDL之下,以露出接点(其包含一金属垫层(UBM)结构,图中未显示),导电凸块形成于第一芯片与第二芯片间,以作为结合第一介电层之接点与第二介电层之接点。此外,一包覆材料布满于第二芯片四周,可为一选择性结构设计。

此第一RDL之扇出,由此第一芯片之金属(铝)垫至终端垫,经由基板之金属通孔,并由第一晶粒耦合电气讯号。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于育霈科技股份有限公司,未经育霈科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810000027.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top