[发明专利]多晶粒封装及其方法无效
申请号: | 200810000027.5 | 申请日: | 2008-01-03 |
公开(公告)号: | CN101232008A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 杨文焜 | 申请(专利权)人: | 育霈科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L25/00 | 分类号: | H01L25/00;H01L25/065;H01L23/48;H01L21/60 |
代理公司: | 北京挺立专利事务所 | 代理人: | 叶树明 |
地址: | 中国台湾新竹县湖*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 封装 及其 方法 | ||
技术领域
本发明系关于一种系统级封装(SIP)结构,尤系指一平板尺寸封装(PSP)之系统级封装
背景技术
于半导体组件领域,组件密度持续地增加且组件尺寸持续地缩小,封装或连结技术于上述之高密度组件上,日益重要。传统之覆晶黏着方式一数组锡凸块形成于晶粒表面上,锡凸块之构成,藉由使用一含锡之复合材料,经由钢板制作一意欲之锡凸块图案。芯片封装之功能包含功率分配、讯号分配、散热、保护以及芯片支撑。当半导体芯片变得更复杂时,传统封装方式,例如导线架封装、软板封装以及硬板封装技术,便无法应付更小尺寸、更高密度之IC封装需求。
现今之多晶粒模块或混合电路,一般而言,将晶粒黏着于一机板上且密封于一外壳中。此一般使用一多层基板,其中包含多层导线与界电层以三明治结构形成。多层基板传统上以迭片技术制作,其中金属导体各自形成于介电层上,接着将之堆栈并连结。
为满足高密度、高性能速度需求,故而发展系统单芯片(SIP)与系统级封装(SIP),而多晶粒模块广泛应用于多种功能芯片整合。多晶粒模块或多晶粒封装技术,提供多个黏着未封装集成电路(IC)(“裸晶”)方式于一基材上,其多个晶粒被”封装”于一整个密封材料或其它聚合物,多晶粒模块提供一高密度模块,其于计算机主板需求面积小,多晶粒模块亦提供整合性功能测试之好处。
更进一步,因为传统封装技术必须将晶圆切割成为个别晶粒,再各自封装,此技术于制程中消耗大量时间。因为芯片封装技术受到集成电路研发影响甚巨,故而当电路之面积成为必要,封装技术亦受其影响。由于以上所述,封装技术由球状矩阵(BGA)、倒装芯片(FC-BGA)、芯片尺寸级封装(CSP)演进至今日之晶圆尺寸级封装(WLP)。“晶圆尺寸级封装”顾名思义,整个封装与其晶圆上之内部联机,以及其它制程步骤,皆完成于分割(切割)成为芯片(晶粒)前。一般而言,当完成整个组装制程或封装制程后,单个的半导体封装于晶圆上被分开,成为多个半导体晶粒,此晶圆尺寸级封装具有极小面积,并具有极佳之电器特性。
晶圆尺寸级封装技术为一种先进封装技术,其晶粒于晶圆上同时制造并测试,其后将其切割分开并组装用于表面黏着产线。因为晶圆尺寸级封装技术利用整个晶圆,并非使用单颗芯片或晶粒,因此于执行切削制程前,封装与测试业已完成,更进一步,晶圆尺寸级封装技术之先进,使得打线、黏晶与填充等制程可省略。使用晶圆尺寸级封装技术,可降低制造成本,其尺寸与晶粒相当,此一技术可符合电子组件极小化之需求。
虽然晶圆尺寸级封装技术有上述之优点,某些因素依然影响此技术之接受度。例如,虽然晶圆尺寸级封装技术,可降低集成电路与基板连接间(增层build up layers-重布层RDL)之热膨胀系数(CTE)不匹配之影响,但是无法于芯片尺寸间允许更高球数。当组件尺寸为最小,其终端接点数将被限制。更进一步,此晶圆尺寸级封装,一复数个焊垫形成于半导体晶粒上作为重布,藉由传统重布制程,其中包含之重布层,接入一数组型态之多个金属垫。锡球直接熔接于金属垫上,藉由重布制程,其形成一数组型态。一般而言,所有堆栈之重布层形成,位于晶粒以及增层之上,因此增加封装厚度,此与降低芯片尺寸之需求相冲突。
因此本发明提出一以堆栈与相邻排列结构,作为WLP(板材晶圆)扇出之多晶粒封装。
发明内容
本发明于在其一观点中,提供一SIP封装其具有较高之可靠度以及较低之价格优势。
本发明提供一多芯片封装结构,其基板具有一芯片容纳凹槽形形成于基板之上表面,以及一通孔结构以构成电子线路,于通孔下方连结终端接点形成导通。一第一晶粒放置(黏着)于容纳槽中,一第一介电层形成于第一晶粒与此基板之上,并且将之填充入槽中晶粒与侧壁间隙。一第一重布导电层(RDL)形成于第一介电层之上,其中之第一RDL已通孔方式连结,第一芯片与终端接点。一第一介电层形成于第一RDL之上,以露出接点(其包含一金属垫层(UBM)结构,图中未显示)。一第二芯片被放置。一第三介电层形成于第二芯片之下(于主动面侧),一第二重布导电层(RDL)形成于此第三导电层之上,其中第二RDL与此第二芯片接合。一第四介电层形成于第二RDL之下,以露出接点(其包含一金属垫层(UBM)结构,图中未显示),导电凸块形成于第一芯片与第二芯片间,以作为结合第一介电层之接点与第二介电层之接点。此外,一包覆材料布满于第二芯片四周,可为一选择性结构设计。
此第一RDL之扇出,由此第一芯片之金属(铝)垫至终端垫,经由基板之金属通孔,并由第一晶粒耦合电气讯号。
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