[发明专利]光刻设备、衬底台和用于释放晶片的方法

权利要求书

1.一种光刻设备，包括：

照射系统，构造且设置以调节辐射束；

支撑件，构造且设置以支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束以形成图案化的辐射束；

衬底台，构造且设置以保持衬底；和

投影系统，构造且设置以将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上，

所述衬底台包括：多个突出部和致动器，所述多个突出部构造且设置以支撑衬底的底部截面的对应部分，所述致动器构造且设置以在衬底中激发冲击波。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述致动器被构造且设置以在所述衬底上施加预定的推力。

3.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述致动器包括被构造且被设置以周期性或准周期性地移动的部件。

4.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述致动器被构造且被设置以直接接触所述衬底。

5.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述致动器被构造且被设置以将基本上方向向上的力施加至所述衬底。

6.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述致动器包括接触区域，所述接触区域被构造且被设置以在所述衬底上施加碰撞力，其中，所述接触区域用适应性材料所覆盖。

7.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述致动器的接触区域具有被设计用于再次产生预定推力的形状。

8.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述致动器被机械的、电的、磁性的、静电的或压电力和/或气压所驱动。

9.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述致动器与衬底提升致动器集成。

10.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述突出部包括突节。

11.一种用于在光刻设备中支撑衬底的衬底台，所述衬底台包括：

多个突出部，构造且设置以支撑衬底的底部截面的对应部分；和

致动器，构造且设置以在衬底中激发冲击波。

12.根据权利要求11所述的衬底台，其中，所述致动器被构造且被设置以在衬底上施加预定的推力。

13.根据权利要求11所述的衬底台，其中，所述致动器包括被构造且被设置以周期性或准周期性地移动的部件。

14.根据权利要求11所述的衬底台，其中，所述致动器被构造且被设置以直接接触所述衬底。

15.根据权利要求11所述的衬底台，其中，所述致动器被构造且被设置以将基本上方向向上的力施加至所述衬底。

16.根据权利要求11所述的衬底台，其中，所述致动器包括被构造且被设置以在所述衬底上施加碰撞力的接触区域，其中，所述接触区域用适应性材料所覆盖。

17.根据权利要求16所述的衬底台，其中，所述致动器的接触区域具有被设计用于再次产生预定推力的形状。

18.根据权利要求11所述的衬底台，其中，所述致动器被机械的、电的、磁性的、静电的或压电力和/或气压所驱动。

19.根据权利要求11所述的衬底台，其中，所述致动器与衬底提升致动器集成。

20.根据权利要求11所述的衬底台，其中，所述突出部包括突节。

21.一种用于从在光刻设备中支撑衬底的衬底台上释放衬底的方法，所述方法包括步骤：在衬底中激发冲击波。