[发明专利]浆料图案形成方法和用于该方法中的转印薄膜无效

专利信息
申请号: 200780042812.0 申请日: 2007-11-19
公开(公告)号: CN101573775A 公开(公告)日: 2009-11-04
发明(设计)人: 秋元英树 申请(专利权)人: E.I.内穆尔杜邦公司
主分类号: H01J9/02 分类号: H01J9/02;H01J9/24;H01J17/49;G02F1/00;H01L31/00
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 朱黎明
地址: 美国特*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 浆料 图案 形成 方法 用于 中的 薄膜
【权利要求书】:

1.一种浆料图案形成方法,所述方法包括以下步骤:

在薄膜基体材料上施加转印图案,从而形成转印薄膜,其中所述转印图案包括转印图案材料和转印图案凹陷;

将所述转印薄膜转印到基底上,以使所述转印图案材料接触所述基底;

将所述薄膜基体材料与所述转印图案材料分离;

将浆料施加到所述转印图案凹陷内,从而形成浆料图案;

固化所述浆料;以及

移除所述转印图案材料。

2.一种浆料图案形成方法,所述方法包括以下步骤:

在薄膜基体材料上施加转印图案材料;

在所述转印图案材料中形成一个或多个转印图案凹陷,从而形成转印薄膜;

将所述转印薄膜转印到基底上,以使所述转印图案材料接触所述基底;

将所述薄膜基体材料与所述转印图案材料分离;

将浆料施加到所述一个或多个转印图案凹陷内,从而形成浆料图案;

固化所述浆料;以及

移除所述转印图案材料。

3.根据权利要求2的浆料图案形成方法,其中使用激光使所述一个或多个转印图案凹陷图案化。

4.根据权利要求2的浆料图案形成方法,其中通过光蚀刻法使所述一个或多个转印图案凹陷图案化。

5.根据权利要求2的浆料图案形成方法,其中通过压印法使所述一个或多个转印图案凹陷图案化。

6.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中通过压力将所述转印薄膜粘附到在其上形成所述浆料图案的基底上。

7.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中使用粘合剂将所述转印薄膜粘附到在其上形成浆料图案的基底上。

8.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,所述方法还包括以下步骤:在将所述浆料施加到所述一个或多个转印图案凹陷内之后,移除残留在所述转印图案材料上的浆料。

9.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中将施加所述浆料到所述一个或多个转印图案凹陷内的步骤以及固化所述浆料的步骤重复两次或两次以上,直到获得预定的浆料图案高度。

10.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中所述转印图案材料通过用水溶解来移除。

11.根据权利要求10的浆料图案形成方法,其中所述转印图案材料包括水溶性树脂。

12.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中所述转印图案材料通过用有机溶剂溶解来移除。

13.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中所述转印图案材料通过烘烤来移除。

14.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中所述浆料图案为太阳能电池的电极图案。

15.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中所述浆料图案为线路板的线路图案。

16.根据权利要求1或2的浆料图案形成方法,其中所述浆料图案为等离子显示屏的阻隔壁。

17.一种用于权利要求1的浆料图案形成方法中的转印薄膜,其中转印图案凹陷在薄膜基体材料上形成。

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