[发明专利]用于有机发光装置的基板、其用途和制备方法，以及有机发光装置

权利要求书

1.一种用于有机发光装置(10)的基板(1)，其包括，位于第一主面(11)之上的底电极膜(3)，所述电极膜(3)由薄膜多层涂层形成，所述多层涂层包括至少以下各层：

-基于金属氧化物的接触层(31)，该接触层(31)是任选掺杂的、任选亚化学计量的锌氧化物，或者是基于非化学计量的锌和锡混合氧化物、混合铟锡氧化物、混合铟锌氧化物；

-具有本征导电性能的金属功能层(32)，该功能层(32)基于选自银的纯材料，或者基于所述材料与选自以下的其它材料的合金或者掺杂物：Au、Pd、Al、Pt、Cu、Zn、Cd、In、Si、Zr、Mo、Ni、Cr、Mg、Mn、Co和Sn；和

-基于金属氧化物的覆盖层(34)，所述覆盖层(34)用于匹配所述电极膜的功函数，其基于至少一种以下任选掺杂的氧化物：钼氧化物、铟氧化物、混合铟锡氧化物(ITO)层或混合铟锌氧化物(IZO)层；

其特征在于，所述基板(1)包括基层(2)，所述基层(2)覆盖所述主面(11)，所述基板(1)包括位于基层(2)与接触层(31)之间的蚀刻停止层，或者其特征在于，蚀刻停止层形成基层(2)的一部分或者形成基层(2)，并且所述蚀刻停止层基于硅氮化物、或者基于硅氧化物、或者基于硅氧氮化物、或者基于硅碳氧化物、或者基于硅氧碳氮化物，形成所述基层的蚀刻停止层任选与锡掺杂，所述金属功能层(32)直接位于至少一种下阻挡膜(31′)之上和/或直接位于至少一种上阻挡膜(32′)之下。

2.如权利要求1所述的基板(1)，其特征在于，所述基层(2)是由基于硅氧化物或硅碳氧化物或基于硅氮化物、硅氧氮化物或硅氧碳氮化物的材料制成的层，任选掺杂所述基层的材料，并且所述基层厚度为10-150nm。

3.如权利要求1或2所述的基板(1)，其特征在于，将由所述接触层(31)、所述覆盖层(34)和位于这两层之间的所有层组成的层的组合蚀刻在同一蚀刻图案中，所述位于所述接触层(31)与所述覆盖层(34)之间的层包括功能层(32)。

4.如权利要求1或2所述的基板(1)，其特征在于，所述基板(1)的光传导T_L等于或大于50％，所述基板(1)的定义为1-R_L-T_L的吸收等于或小于15％，或者其特征在于，所述基板(1)的光反射R_L等于或大于70％，或者其特征在于，所述基板(1)的T_L/R_L比为0.1-0.7。

5.如权利要求1或2所述的基板(1)，其特征在于，所述覆盖层(34)上的RMS粗糙度等于或小于3nm。

6.如权利要求1或2所述的基板(1)，其特征在于，所述功能层(32)的厚度为3-20nm。

7.如权利要求1或2所述的基板(1)，其特征在于，所述接触层的厚度为3-30nm。

8.如权利要求1或2所述的基板(1)，其特征在于，所述覆盖层(34)的厚度为3-50nm。

9.如权利要求8所述的基板(1)，其特征在于，至少一种阻挡膜(31′，32′)包含金属层、金属氮化物层和/或金属氧化物层，其中，这些层基于以下金属中的至少一种：Ti、V、Mn、Fe、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Ta和W，或者基于至少一种所述材料的合金。

10.如权利要求1或2所述的基板(1)，其特征在于，所述基板(1)在基层(2)与接触层(31)之间包括由混合氧化物制成的非晶平滑层(30)，所述平滑层(30)紧邻所述接触层(31)并直接置于所述接触层(31)之下，并且所述平滑层(30)由不同于接触层材料的材料制成。

11.如权利要求10所述的基板(10)，其特征在于，所述平滑层(30)是基于一种或多种以下元素的氧化物的混合氧化物层：Sn、Si、Ti、Zr、Hf、Zn、Ga、In。

12.如权利要求11所述的基板(10)，其特征在于，所述混合氧化物层是基于锌和锡的任选掺杂的混合氧化物层，或者是混合铟锡氧化物(ITO)层，或者是混合铟锌氧化物(IZO)层。