[发明专利]具有改进性质的多层可成像元件有效
| 申请号: | 200780038955.4 | 申请日: | 2007-10-05 |
| 公开(公告)号: | CN101528465A | 公开(公告)日: | 2009-09-09 |
| 发明(设计)人: | J·帕特尔;S·萨赖亚;T·陶 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
| 主分类号: | B41C1/10 | 分类号: | B41C1/10 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 林毅斌;韦欣华 |
| 地址: | 美国*** | 国省代码: | 美国;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 改进 性质 多层 成像 元件 | ||
发明领域
本发明涉及在成像和显影后可烘烤性方面具有各种改进性质的 正性多层可成像元件。本发明也涉及使用这些元件获得平版印刷印版 的方法及由其获得的图像。
发明背景
在常规或“湿法”平版印刷中,油墨接受区域(通常所说的图像区 域)在亲水表面上生成。当表面为水所润湿且施加了油墨时,亲水区 域将留存水而排斥油墨,疏水区域将接受油墨而排斥水。油墨被转移 到其上待复制图像的材料表面上。例如,油墨可先转移到中间橡皮布 上,中间橡皮布再用来将油墨转移到其上待复制图像的材料表面上。
可用来制备平版印刷印版的可成像元件通常包含施加于基材亲 水表面上的可成像层。可成像层含一种或多种辐射敏感组分,辐射敏 感组分可分散于适宜的基料(binder)中。或者,辐射敏感组分也可为基 料。成像后,可成像层的成像区域或未成像区域通过适宜的显影剂除 去,从而露出基材下面的亲水表面。如果成像区域被除去,则元件被 认为是正性的。相反,如果未成像区域被除去,则元件被认为是负性 的。在各情况下,保留的可成像层的区域(即图像区域)为油墨接受区 域,通过显影过程露出的亲水表面区域接受水和水溶液(通常润版溶 液)而排斥油墨。
可成像元件用紫外和/或可见辐射的成像通常通过具有透明和不 透明区域的掩模进行。成像发生在掩模的透明区域下的区域中而不发 生在不透明掩模区域下的区域中。如果最终图像需要校正,则必须制 作新的掩模。这是一个耗时的过程。此外,掩模的尺寸可能因温度和 湿度的改变而轻微改变。因此,当用在不同的时间或不同的环境中时, 同一掩模可能给出不同的结果而可能引起套色(registration)问题。
直接数字成像已避免了通过掩模成像的需要而在印刷工业中变 得越来越重要。已开发出与红外激光器一起使用的用于制备平版印刷 印版的可成像元件。例如美国专利6,294,311(Shimazu等)、6,352,812 (Shimazu等)、6,593,055(Shimazu等)、6,352,811(Patel等)、6,358,669 (Savariar-Hauck等)和6,528,228(Savariar-Hauck等)及美国专利申请公 开2004/0067432 A1(Kitson等)描述了可热成像的多层元件。
美国专利7,049,045(Kitson等)描述了具有改进的耐印刷化学品 性并可烘烤以增长印刷机运行时间的多层正性可成像元件。
待解决的问题
成像的多层正性元件常在显影后烘烤以增长其在机运行时间。虽 然已知的可成像元件表现出优异的成像和印刷性质,但需要改进已成 像元件的显影后可烘烤性同时提高成像敏感性(速度)和保持耐印刷化 学品性。特别地,需要降低烘烤温度和缩短烘烤时间同时保持在机运 行时间。
发明概述
本发明提供了一种正性可成像元件,所述元件包含辐射吸收化合 物和具有亲水表面的基材,且所述基材上依次具有:
包含第一和第二聚合物基料的内层组合物,和
油墨接受外层,
条件是热成像后所述元件的曝光区域可通过碱性显影剂除去,
其中所述第一聚合物基料的酸值至少为30并包含含酸基的重复 单元,和
所述第二聚合物基料包含衍生自N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺、 羟甲基(甲基)丙烯酰胺、(烷基)丙烯酸烷氧基甲酯或其任意组合的重 复单元。
在另一方面,本发明提供了一种形成图像的方法,所述方法包括:
A)以热法按图像曝光本发明的正性可成像元件,从而形成含曝 光和未曝光区域的已成像元件,
B)使所述已成像元件与碱性显影剂接触以仅除去曝光区域,和
C)任选但优选以如下所述方式烘烤所述已成像并显影的元件。
已发现本发明的多层可成像元件具有改进的显影后可烘烤性(或 可固化性)同时其也具有快速数字成像速度和理想的耐印刷化学品 性。特别地,良好的在机运行时间成为可能,即便所述已成像和显影 的元件在比常规温度低的温度下烘烤(或固化)比常规时间少的时间。
发明详述
定义
除非上下文中另有指出,否则本文中用到的术语“可成像元件” 和“印版前体”意在参考本发明的实施方案。
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