[发明专利]具有改进性质的多层可成像元件

权利要求书

1.一种正性可成像元件，所述元件包含辐射吸收化合物和具有 亲水表面的基材，且所述基材上依次具有：

包含第一和第二聚合物基料的内层组合物，和

油墨接受外层，

条件是热成像后所述元件的曝光区域可通过碱性显影剂除去，

其中所述第一聚合物基料的酸值至少为30并包含沿着聚合物主 链含侧酸基的重复单元，和衍生自(甲基)丙烯腈、羧基苯基(甲基)丙 烯酰胺或亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯磷酸酯中的一种或多种的重复单 元，和

所述第二聚合物基料包含衍生自N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺、 (烷基)丙烯酸烷氧基甲酯或羟甲基(烷基)丙烯酰胺的重复单元。

2.权利要求1的元件，其中所述内层组合物在160-220℃下加热 2-5分钟或通过800-850nm的全面红外辐射曝光时固化。

3.权利要求1的元件，其中所述第一聚合物基料的酸值至少为 50。

4.权利要求1的元件，其中所述第二聚合物基料包含衍生自甲 氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、羟甲基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸甲氧 基甲酯或其任何组合的重复单元。

5.权利要求1的元件，其中所述第一聚合物基料包含衍生自4- 羧基苯基(甲基)丙烯酰胺、乙二醇(甲基)丙烯酸酯磷酸酯、(甲基)丙烯 酸或其组合的重复单元，和衍生自(甲基)丙烯腈的重复单元，所述第 二聚合物基料包含衍生自N-烷氧基甲基(甲基)丙烯酰胺的重复单元。

6.权利要求1的可成像元件，其中所述内层中所述第一聚合物 基料与所述第二聚合物基料的重量比为0.2∶1到20∶1。

7.权利要求1的可成像元件，其中所述第一聚合物基料还包含 衍生自一种或多种(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺、 乙烯基咔唑、苯乙烯和其苯乙烯类衍生物、N-取代马来酰亚胺、马来 酸酐、醋酸乙烯酯、乙烯基酮、乙烯基吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮、1- 乙烯基咪唑和乙烯基聚烷基硅烷的B重复单元。

8.权利要求1的可成像元件，其中所述第二聚合物基料包含衍 生自N-烷氧基甲基(烷基)丙烯酰胺、(烷基)丙烯酸烷氧基甲酯、羟甲 基(烷基)丙烯酰胺或其任意组合的C重复单元，以及衍生自一种或多 种(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯酰胺、乙烯基咔唑、 苯乙烯和其苯乙烯类衍生物、N-取代马来酰亚胺、马来酸酐、醋酸乙 烯酯、乙烯基酮、乙烯基吡啶、N-乙烯基吡咯烷酮、1-乙烯基咪唑、 含羧基的乙烯基单体和乙烯基聚烷基硅烷的D重复单元，其中C重 复单元以5-80mol％的量存在，且D重复单元以20-95mol％的量存在。

9.权利要求1的可成像元件，其中所述第一和第二聚合物基料 的总量为50-99％，所述第一聚合物基料以20-90％重量的量存在，所 述第二聚合物基料以5-80％重量的量存在，所有百分数均为占所述内 层总干重的百分数。

10.权利要求1的可成像元件，其中所述辐射吸收化合物为红外 吸收化合物，其以占所述内层总干重的5-40％重量的量存在，且所述 内层中所述第一聚合物基料与所述第二聚合物基料的重量比为1∶1到 10∶1。

11.一种形成图像的方法，所述方法包括：

A)以热法按图像曝光权利要求1的正性可成像元件，从而形成 含曝光和未曝光区域的已成像元件，

B)使所述已成像元件与碱性显影剂接触以仅除去所述曝光区 域，和

C)任选烘烤所述已成像并显影的元件。

12.权利要求11的方法，其中所述按图像曝光用提供波长 600-1200nm的辐射的红外激光器进行。

13.权利要求11的方法，其中所述已成像和显影的元件在低于 300℃下烘烤少于10分钟。

14.权利要求13的方法，其中所述已成像和显影的元件在 160-220℃下烘烤2-5分钟或通过800-850nm的全面红外辐射曝光。