[发明专利]容器等离子处理机用的双重密封装置有效

专利信息
申请号: 200780038728.1 申请日: 2007-10-17
公开(公告)号: CN101529137A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: Y-A·杜克洛 申请(专利权)人: 西德尔合作公司
主分类号: F16J15/00 分类号: F16J15/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 李 丽
地址: 法国奥克特*** 国省代码: 法国;FR
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摘要:
搜索关键词: 容器 等离子 处理机 双重 密封 装置
【权利要求书】:

1.容器(2)等离子处理机(1)用的密封装置(23),其特征在于, 所述密封装置包括至少第一和第二环形的密封表面(24、25),所述密封 表面适于分别与所述容器(2)的颈部(12)的不同的第一和第二环形区(13、 15)配合,所述第一和第二环形区即一方面是器口(13),另一方面是环 箍(15)。

2.按照权利要求1所述的密封装置(23),其特征在于,所述密封表 面(24、25)由至少一密封垫圈带有。

3.按照权利要求2所述的密封装置(23),其特征在于,所述密封表 面(24、25)由两个不同的密封垫圈(27、28)带有。

4.按照权利要求2或3所述的密封装置(23),其特征在于,所述密 封装置包括一套筒(29),所述套筒(29)适于接收所述容器(2)的颈部 (12)且形成所述密封垫圈(27、28)用的框架。

5.按照权利要求4所述的密封装置(23),其特征在于,所述套筒(29) 包括由管状的裙部(32)延长的一柱形主体(30)。

6.按照权利要求5所述的密封装置(23),其特征在于,第一密封垫 圈被嵌套在一锪孔(33)内,所述锪孔(33)在所述主体(30)和所述裙 部(32)之间的连接部处形成于所述套筒(29)内,而第二密封垫圈被安 装在所述裙部(32)上。

7.按照权利要求5所述的密封装置(23),其特征在于,其包括至少 一排气孔(41),所述排气孔使由所述裙部(32)在内部限定的一空间与 所述套筒(29)的外部相连通。

8.容器等离子处理机(1),其包括按照上述权利要求1至7中任一 项所述的密封装置(23)。

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