[发明专利]低蚀刻性较厚光刻胶清洗液有效
| 申请号： | 200780037544.3 | 申请日： | 2007-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN101522879A | 公开（公告）日： | 2009-09-02 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;史永涛 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C11D7/34 | 分类号： | C11D7/34;G03F7/42 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李伟铭 |
| 地址： | 中国上海市浦东新区张江高科技园*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 蚀刻 性较厚 光刻 清洗 | ||
1.一种低蚀刻性较厚光刻胶清洗液，其特征是含有氢氧化钾、二甲基亚砜、苯甲醇和乙醇胺，其中：所述的氢氧化钾的含量是质量百分比0.1-10％；所述的二甲基亚砜的含量是质量百分比20-98.8％；所述的苯甲醇的含量是质量百分比1-50％；所述的乙醇胺的含量是质量百分比0.1-50％。
2.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的氢氧化钾的含量是质量百分比0.1-3％。
3.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量是质量百分比50-98.4％。
4.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的苯甲醇的含量是质量百分比1-30％。
5.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的乙醇胺的含量是质量百分比0.5-30％。
6.根据权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的清洗液还含有金属缓蚀剂，所述金属缓蚀剂选自2-巯基苯并噻唑、苯并三氮唑、酚、羧酸、羧酸酯、酸酐、膦酸和膦酸酯中的一种或多种。
7.根据权利要求6所述的清洗液，其特征在于：所述金属缓蚀剂选自：2-巯基苯并噻唑、苯并三氮唑、苯酚、1，2-二羟基苯酚、对羟基苯酚、连苯三酚、苯甲酸、对氨基苯甲酸、对氨基苯甲酸甲酯、邻苯二甲酸、邻苯二甲酸甲酯、没食子酸、没食子酸丙酯、乙酸酐、己酸酐、马来酸酐、聚马来酸酐和1，3-(羟乙基)-2，4，6-三膦酸中的一种或多种。
8.根据权利要求6所述的清洗液，其特征在于：所述的金属缓蚀剂的含量 为质量百分比不超过10％。
9.根据权利要求8所述的清洗液，其特征在于：所述的金属缓蚀剂的含量为质量百分比不超过3％。
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