[发明专利]体积全息光记录介质、体积全息记录层形成用组合物、体积全息记录材料及体积全息光记录方法无效

专利信息
申请号: 200780030082.2 申请日: 2007-09-03
公开(公告)号: CN101501579A 公开(公告)日: 2009-08-05
发明(设计)人: 三木康彰;伊东秀明 申请(专利权)人: 三菱化学株式会社
主分类号: G03H1/02 分类号: G03H1/02;G11B7/244
代理公司: 上海市华诚律师事务所 代理人: 刘香兰
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 体积 全息 记录 介质 形成 组合 材料 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种体积全息光记录介质等,更详细地涉及这样一种体积全息光记录介质 等,其通过多束可干涉性光的照射,可进行三维信息记录。

背景技术

近几年,朝着光记录介质的更大容量化,更高密度化,在开发一种体积全息方式的光 记录介质,其根据由光的干涉引起的光强度的分布,使记录层的折射率发生变化,全息记 录信息。

有关全息制作的一般原理在几篇文献或专业书籍(参见非专利文献1)等中有记载。 根据这些文献,将2光束的相干激光的其中一束照射在记录对象物上,在接受该光的位置 放置感光性的全息记录材料。

除了来自对象物的光的照射之外,另一束相干光不照射到对象物上,而是直接照射到 全息记录材料上。来自对象物的光叫做物体光,直接照射在记录材料上的光叫做参照光。 将参照光和物体光的干涉条纹作为图象信息记录在全息记录材料上。接着,若将与参照光 相同的光(再生照明光)照射在经过处理的记录材料上,则在记录时,通过全息进行衍射, 使得来自对象物的最初到达记录材料的反射光的波阵面再现。结果可以观察到三维的与对 象物的实像大致相同的物像。

在这里,将参照光和物体光从相同方向入射到全息记录材料而形成的全息叫做透过型 全息,将参照光和物体光从相反侧入射而形成的全息叫做反射型全息。

将膜厚相对于干涉条纹间隔十分厚(通常,该厚度为干涉条纹间隔的5倍以上,或者 1μm以上左右)的全息叫做体积型全息。体积型全息由于在可在膜厚方向进行记录,所以 膜厚大的可进行高密度的记录。

作为公知的体积位相型全息记录材料的例子,有不需要湿式处理或漂白处理的一次写 入型形式。其成分一般是将树脂基质与光活性化合物相溶而成的物质。例如,举例有组合 树脂基质与可自由基聚合或可阳离子聚合的单体的光聚合物方式(参见专利文献1~4等)。

记录信息时,用物体光和参照光一起对记录层进行照射,使物体光和参照光在记录层 中进行干涉。此时,干涉光使记录层内的光活性化合物发生变化。例如,光活性化合物是 聚合性单体时,开始聚合,随之产生光活性化合物的浓度梯度,光活性化合物发生从光弱 的部分向光强的部分的扩散移动。

结果,由于记录层内的光活性化合物的浓度的疏密而在记录层内产生折射率差,记录 层内所记录的干涉条纹被作为全息记录下来。因为记录层内的折射率差越大衍射效率越 大,因此为了产生折射率差,而设法在树脂基质或光活性化合物的任一种中使用具有芳香 环、杂环、氯、溴等的化合物等。

非专利文献1:内顺平编,“ホログラフイツクデイスプレイ”(全息显示)第2章, 产业图书

专利文献1:日本专利第3737306号

专利文献2:日本专利第3645480号

专利文献3:日本专利特开2005-43862号公报

专利文献4:日本专利特表2005-502918号公报

附图说明

图1是表示用于全息记录的装置的概要的图。

符号说明

S 样品,M1、M2、M3镜,PBS  偏振光分光器,L1 记录光用激光光源,

L2 再生光用激光光源,PD1、PD2  光电检测器。

发明内容

发明要解决的课题

树脂基质的形成方法举例有各种各样的方法。例如,举例有异氰酸酯-羟基分段聚合(形 成聚氨酯)、异氰酸酯-胺分段聚合(形成尿素)、阳离子环氧聚合、阳离子乙烯醚聚合、阳 离子链烯醚聚合、环氧-胺分段聚合、环氧-硫醇分段聚合等。

出于树脂基质与光反应前的光活性化合物的相溶性或树脂基质与由光反应后的光活 性化合物得到的聚合物之间的相溶性的观点等,在该树脂基质中经常使用含有聚醚骨架的 合成树脂。尤其,如专利文献1的实施例所述,实际上大多数是主要成份为具有碳原子数 C1~C3的烯化氧的结构的合成树脂。还有,其后申请的专利文献2记载了该树脂基质在保 管中有吸湿的倾向,存在材料膨胀,折射率空间不均一地变化,储存寿命被限定的问题。

因此,在专利文献2中记载了将记录层包装在密闭的玻璃板内,用防湿性的密封剂密 封四周的方法,但没有记载对记录层的材料的改良。

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