[发明专利]体积全息光记录介质、体积全息记录层形成用组合物、体积全息记录材料及体积全息光记录方法无效
申请号: | 200780030082.2 | 申请日: | 2007-09-03 |
公开(公告)号: | CN101501579A | 公开(公告)日: | 2009-08-05 |
发明(设计)人: | 三木康彰;伊东秀明 | 申请(专利权)人: | 三菱化学株式会社 |
主分类号: | G03H1/02 | 分类号: | G03H1/02;G11B7/244 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 | 代理人: | 刘香兰 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 体积 全息 记录 介质 形成 组合 材料 方法 | ||
1.一种体积全息光记录介质,所述体积全息光记录介质由至少具有透明基板和记录层 的多层结构构成,所述记录层含有合成树脂而构成,通过由于多束可干涉性光的照射而形 成于该记录层内的干涉条纹,可进行三维的信息记录,其特征在于,
所形成的所述记录层的吸湿率在1.5重量%以下。
2.如权利要求1所述的体积全息光记录介质,其特征在于,
所述记录层含有树脂基质(A)及/或树脂基质(B)、和光活性化合物(C),
所述树脂基质(A)是由聚异氰酸酯(A1)和具有-(C=O)O-基及/或-O(C=O)O- 基的多元醇(A2)反应而得到的树脂基质,
所述树脂基质(B)是由1分子中具有2个以上的环氧基的环氧化合物(B1)和硬化 剂(B2)反应而得到的树脂基质。
3.如权利要求2所述的体积全息光记录介质,其特征在于,1分子所述聚异氰酸酯(A1) 中具有3个以上的异氰酸酯基。
4.如权利要求2或3所述的体积全息光记录介质,其特征在于,所述环氧化合物(B1) 具有碳原子数4以上、10以下的烯化氧。
5.如权利要求2~4中任一项所述的体积全息光记录介质,其特征在于,所述硬化剂 (B2)是选自胺类、酸酐、硫醇类、阴离子聚合引发剂及阳离子聚合引发剂中的至少一种。
6.如权利要求2~5中任一项所述的体积全息光记录介质,其特征在于,所述光活性化 合物(C)是自由基聚合性单体。
7.如权利要求2~6中任一项所述的体积全息光记录介质,其特征在于,所述光活性化 合物(C)的比例是相对于所述树脂基质(A)或所述树脂基质(B)100重量份,或者相 对于所述树脂基质(A)与所述树脂基质(B)之和((A)+(B))100重量份,在0.5重 量份以上、100重量份以下。
8.一种体积全息记录层形成用组合物,所述体积全息记录层形成用组合物用于体积全 息光记录介质,其特征在于,
含有100重量份的由树脂基质(A)及/或树脂基质(B)构成的合成树脂、和0.5重量 份~100重量份的光活性化合物(C),
所述树脂基质(A)是由聚异氰酸酯(A1)和具有-(C=O)O-基及/或-O(C=O)O- 基的多元醇(A2)反应而得到的树脂基质,
所述树脂基质(B)是由1分子中具有2个以上环氧基的环氧化合物(B1)和硬化剂 (B2)反应而得到的树脂基质。
9.一种体积全息记录材料,其特征在于,至少含有权利要求8所述的体积全息记录 层形成用组合物。
10.一种体积全息光记录方法,其特征在于,对权利要求1所述的体积全息光记录介 质的所述记录层照射激发光及参照光,通过所述激发光和所述参照光的干涉,在所述记录 层进行体积全息记录。
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