[发明专利]无机发光材料、涂敷用无机发光材料组合物、制备无机发光材料的方法和发光器件有效

专利信息
申请号: 200780017779.6 申请日: 2007-12-27
公开(公告)号: CN101448915A 公开(公告)日: 2009-06-03
发明(设计)人: 金忠烈;孔成民;崔熙石;朴胜赫;尹皓新;李昌姬 申请(专利权)人: LG伊诺特有限公司;弗斯4公司
主分类号: C09K11/55 分类号: C09K11/55
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蔡胜有;王春伟
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 无机 发光 材料 敷用 组合 制备 方法 器件
【权利要求书】:

1.一种用以下化学式表示的硅酸盐基无机发光材料: (4-x-y-z)SrO·xBaO·zCaO·aMgO·2(SiO2)·bM2O3:yEu,其中M是Y、Ce、 La、Nd、Gd、Tb、Yb或Lu中的至少一种,其中0<x≤3.95,0<y≤1,0≤z<3.95, x+y+z<4,0<a<2,并且0<b<1。

2.根据权利要求1所述的硅酸盐基无机发光材料,其中在所述化学式中, x、y和z满足0.01≤x<1.0、0.02≤y≤0.40、0≤z≤1并且x+y+z<4,其中用发 光峰值波长为430nm~480nm的一次光激发所述无机发光材料,使得二 次光具有540~600nm的发光峰值波长。

3.根据权利要求1所述的硅酸盐基无机发光材料,其中在所述化学式中, x、y和z满足1.0≤x≤3.95、0.02≤y≤0.40、z=0和x+y+z<4,其中用发光峰 值波长为430nm~480nm的一次光激发所述无机发光材料,使得二次光 具有480nm~540nm的发光峰值波长。

4.根据权利要求1所述的硅酸盐基无机发光材料,其中在所述化学式中, x、y和z满足0.01≤x<1、0.02≤y≤0.40、1<z<3.95和x+y+z<4,其中用发光 峰值波长为430nm~480nm的一次光激发所述无机发光材料,使得二次 光具有570nm~620nm的发光峰值波长。

5.根据权利要求1所述的硅酸盐基无机发光材料,其中所述硅酸盐基无 机发光材料是通过混合在所述化学式中x、y和z满足0.01≤x<1.0、 0.02≤y≤0.40、0≤z≤1和x+y+z<4的无机发光材料与x、y和z满足1.0≤x≤3.95、 0.02≤y≤0.40、z=0和x+y+z<4的无机发光材料获得的。

6.根据权利要求1所述的硅酸盐基无机发光材料,其中所述硅酸盐基无 机发光材料是通过混合在所述化学式中x、y和z满足0.01≤x<1.0、 0.02≤y≤0.40、0≤z≤1和x+y+z<4的无机发光材料与x、y和z满足0.01≤x<1、 0.02≤y≤0.40、1<z<3.95和x+y+z<4的无机发光材料获得的。

7.根据权利要求1所述的硅酸盐基无机发光材料,其中所述硅酸盐基无 机发光材料是通过混合在所述化学式中x、y和z满足1.0≤x≤3.95、 0.02≤y≤0.40、z=0和x+y+z<4的无机发光材料与x、y和z满足0.01≤x<1、 0.02≤y≤0.40、1<z<3.95和x+y+z<4的无机发光材料获得的。

8.根据权利要求1所述的硅酸盐基无机发光材料,其中所述硅酸盐基无 机发光材料是通过混合在所述化学式中x、y和z满足0.01≤x<1.0、 0.02≤y≤0.40、0≤z≤1和x+y+z<4的无机发光材料,x、y和z满足1.0≤x≤3.95、 0.02≤y≤0.40、z=0和x+y+z<4的无机发光材料以及x、y和z满足0.01≤x<1、 0.02≤y≤0.40、1<z<3.95和x+y+z<4的无机发光材料获得的。

9.一种通过混合硅酸盐基第一无机发光材料和石榴石基无机发光材料获 得的无机发光材料,所述硅酸盐基第一无机发光材料用以下化学式表示: (4-x-y-z)SrO·xBaO·zCaO·aMgO·2(SiO2)·bM2O3:yEu,其中M是Y、Ce、 La、Nd、Gd、Tb、Yb或Lu中的至少一种,0<x≤3.95,0<y≤1,0≤z<3.95, x+y+z<4,0<a<2,并且0<b<1。

10.根据权利要求9所述的无机发光材料,其中所述石榴石基第二无机发 光材料用化学式x(M12O3)·y(M22O3):zRE表示,其中M1是Y、Tb、La、 Yb、Sm或Lu中的至少一种,M2是Al或Ga中的至少一种,RE是Pr、 Gd或Ce中的至少一种,0<x≤1.5,0<y≤2.5并且0<z≤1。

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