[发明专利]半导体设备的副产品收集装置

权利要求书

1.一种用于收集在处理室产生的废气中所包含的反应副产品的装 置，所述装置包括：

壳体，其具有进气口和出气口；以及

捕获模块，其安装在所述壳体内，并具有呈弯曲状或倾斜状从而引 导废气以弯曲方式流动的第一板，

其中，所述捕获模块的第一板呈放射状并倾斜地设置，

所述捕获模块还包括多个第二板，所述第二板安装在所述壳体内并 被成形为引导废气以Z字形流动，

所述捕获模块包括：

第一捕获部，所述第一板安装在所述第一捕获部中；以及

第二捕获部，所述第二板安装在所述第二捕获部中，所述第二板按 多阶设置且按预定间隔分隔开并具有多个开口，所述多个开口被设置为 让废气流过的通道。

2.如权利要求1所述的装置，其中所述第一捕获部的长度大于所述 第二捕获部的长度。

3.如权利要求1所述的装置，其中所述第二捕获部与所述第一捕获 部相比被设置在邻近于所述出气口的位置处。

4.如权利要求1所述的装置，其中所述第一板具有与所述壳体的内 表面接触的外侧表面，并且在所述第一板的外侧表面上形成有切割部， 从而让废气在所述壳体的内表面与所述第一板的外侧表面之间流动。

5.如权利要求1所述的装置，其中在所述第一板上形成有多个通孔。

6.如权利要求5所述的装置，其中所述通孔的尺寸随着所述通孔与 所述进气口的距离变大而减小。

7.如权利要求1所述的装置，其中所述捕获模块还包括：

内筒，其具有让废气流过的内部通道，其中所述第一板和所述第二 板被固定在所述内筒的外周上，以及

第三捕获部，其安装在所述内筒的内部通道中，从而收集从所述内 部通道中流过的废气的反应副产品。

8.如权利要求7所述的装置，其中所述第三捕获部包括：

垂直地设置在所述内筒的内部通道的中心处的支撑杆；

倾斜地安装在所述支撑杆上的第三板；以及

水平地安装在所述支撑杆上的第四板。

9.如权利要求7所述的装置，还包括阻挡件，所述阻挡件用于防止 从所述捕获模块掉落的块状粉末经过所述出气口排出。

10.如权利要求9所述的装置，其中所述阻挡件包括阻挡边界，其 从设有所述出气口的壳体一侧在面对着所述壳体内侧的方向上凸出。

11.如权利要求10所述的装置，其中所述阻挡件还包括置于所述出 气口上方的阻挡板。

12.如权利要求1所述的装置，其中所述壳体包括：

圆柱状主体，其上部和下部是打开的；

上板，其与所述主体的上部结合并具有所述进气口；以及

下板，其与所述主体的下部结合并具有所述出气口。

13.如权利要求7所述的装置，还包括用于冷却从所述壳体中流过 的废气的冷却部件。

14.如权利要求13所述的装置，其中所述冷却部件包括：

用于冷却所述壳体的第一冷却部；以及

用于冷却所述捕获模块的内筒的第二冷却部，其中所述第一板和所 述第二板与被所述冷却部件冷却的所述壳体和所述内筒交换热量。

15.如权利要求14所述的装置，其中所述第一冷却部包括设置在所 述壳体的壁上的第一冷却管线，并且所述第二冷却部包括设置在所述内 筒的壁上的第二冷却管线。

16.如权利要求1所述的装置，还包括用于加热被引入到所述壳体 中的废气的加热部件。