[发明专利]气体阻隔性膜无效
| 申请号： | 200780012847.X | 申请日： | 2007-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN101421105A | 公开（公告）日： | 2009-04-29 |
| 发明（设计）人： | 荒井崇;立石康;广田草人;奥津涉;寺西正芳 | 申请（专利权）人： | 东丽株式会社;东丽薄膜先端加工株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/38 | 分类号： | B32B27/38;B05D7/24;B32B9/00;B32B27/40;B65D65/40;B65D81/24 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 段承恩;田 欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 | ||
【权利要求书】：
1.一种蒸煮用气体阻隔性膜，其特征在于，在基材膜的一面上设有由 无机化合物形成的蒸镀层，在该蒸镀层上设有由含有下述式(1)所示的骨架 结构的聚环氧系固化生成物形成的气体阻隔层，在该气体阻隔层上设有由 选自聚环氧树脂、聚酯树脂、和聚丙烯酸树脂中的至少一种树脂形成的外 覆层，外覆层的厚度为0.2～5μm。
式(1)
2.根据权利要求1所述的蒸煮用气体阻隔性膜，其特征在于，上述外 覆层是由不含有上述式(1)所示的骨架结构的聚环氧树脂形成的。
3.根据权利要求1所述的蒸煮用气体阻隔性膜，其特征在于，形成上 述蒸镀层的无机化合物是金属氧化物。
4.根据权利要求3所述的蒸煮用气体阻隔性膜，其特征在于，上述金 属氧化物是选自氧化铝、氧化硅和氧氮化硅中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的蒸煮用气体阻隔性膜，其特征在于，气体阻 隔性膜的用途是蒸煮用途。
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