[发明专利]主盘曝光设备和用于主盘曝光设备的调整方法

说明书

技术领域

发明涉及于其内调整照射在主盘上的记录波束的照射位置的主盘曝光设备和用于主盘曝光设备的调整方法。

背景技术

被称作硬盘的例如磁盘和光盘等被广泛地用作具有大记录容量的信息记录媒介。在其制造过程中，使用具有高记录分辨率的电子束主盘曝光设备。

主盘曝光设备一般地具有：用于将电子束照射到主盘的电子束产生系统；和用于将主盘转动(θ)和水平地移动(x)的x-θ平台系统。通过将主盘的转动(θ)和水平运动(x)控制在电子束的照射位置(即，束点)固定的状态内，而将记录信息相对于主盘的转动中心同心地或螺旋地写在主盘上(参看专利文献1：日本专利申请公开号H06-131706)。

例如，如图1(A)所示，在从主盘D的转动中心O开始的径向内记录四个径向图案的情况下，主盘D每次转动90度，并且将电子束照射在主盘D上，从而，如图1(B)所示，记录第一个磁轨。随后，主盘D水平地移动预定距离，主盘D再一次每次转动90度，并且将电子束照射在主盘D上，从而如图1(C)所示，记录第二个磁轨。然后，以类似于以上的方式，通过转动并且水平地移动主盘D并且照射电子束，形成了图1(A)所示的径向图案。

然而在具有该构造的主盘曝光设备中，存着这样的情况，即当主盘曝光设备使用较长时间时，由于振动、温度变化等等而设备的部件间进行对齐的过程中发生超过容许量的偏移。具体地，基于照射在主盘上的记录电子束的束点的原点(也就是说，当电子束没有偏移时照射在主盘上的束点的位置)与主盘转动中心重合的假定下控制上述记录的写入。例如，因此如图2(A)所示，如果在记录波束的束点原点O_B与主盘D的转动中心O_O之间发生距离ΔX与ΔY的偏离，那么虽然意欲形成如图1(A)所示的图案，但最后却形成了如图2(C)所示的图案。

发明内容

作为示例，提出了以上问题作为本发明将要解决的问题。发明的一个目的是提供一种设备和方法，用于容易地调整记录波束的束点的原点与主盘的转动中心之间的偏差。

为了实现以上目的，根据本发明，提供了一种主盘曝光设备，其包括：用于转动主盘的转盘；用于至少在一个方向上水平移动转盘的移动装置；波束照射装置，用于将电子束照射到转盘，借此在转盘上或者在主盘上形成束点；用于偏移波束的波束偏移装置；和用于控制移动装置、波束照射装置和波束偏移装置的控制装置，其特征在于控制装置包括初始化装置，用于执行初始操作，以便驱动移动装置或者波束偏移装置中的至少一个，并且使得束点的原点与转盘的转动中心在启动时重合。

根据本发明，提供了一种调整主盘曝光设备的波束照射位置的方法，主盘曝光设备包括：用于转动主盘的转盘；用于至少在一个方向上水平移动转盘的移动装置；波束照射装置，用于将电子束照射到转盘，借此在转盘上或者在主盘上形成束点；用于偏移波束的波束偏移装置；和用于控制移动装置、波束照射装置和波束偏移装置的控制装置，其特征在于在启动时执行用于驱动移动装置或者波束偏移装置中的至少一个并且使束点的原点与转盘的转动中心重合的初始操作。

附图说明

图1示出了主盘的平面图，在该主盘上，在束点的原点与转盘的转动中心重合的情况下将电子束照射到主盘上而形成了图案。

图2示出了主盘的平面图，在该主盘上，在束点的原点偏离转盘的转动中心的情况下将电子束照射到主盘上而形成了图案。

图3示出了根据发明一种实施方式的主盘曝光设备的方框图。

图4示出了具有标记的主盘的透视图。

图5示出了根据发明第一种实施方式的照射位置调整程序的流程图。

图6示出了根据发明第一种实施方式的照射位置调整程序的详细流程图。

图7示出了图形，所述图形显示了在扫描时施加到偏束器上的施加电压在x方向和y方向上的时间变化。

图8示出了由图7中施加的电压所获得的扫描波束的轨迹示出于扫描坐标系的情况下的视图。

图9示出了根据发明第一种实施方式的标记位置示出于扫描坐标系的情况下的视图。

图10示出了根据发明第二种实施方式的照射位置调整程序的详细流程图。

图11示出了根据发明第二种实施方式的标记位置示出于扫描坐标系情况下的视图。

图12示出了根据发明第三种实施方式的照射位置调整程序的流程图。

图13示出了根据发明第三种实施方式的标记程序的详细流程图。

图14示出了硬盘的平面示意图。

图15示出了纳米压印设备的示意图。