[发明专利]主盘曝光设备和用于主盘曝光设备的调整方法

权利要求书

1、一种主盘曝光设备，该主盘曝光设备包括：

用于转动主盘的转盘；

用于在至少一个方向上水平移动所述转盘的移动装置；

用于将电子束照射到所述转盘从而将束点形成于所述转盘或者所述主盘上的波束照射装置；

用于偏移所述波束的波束偏移装置；和

用于控制所述移动装置、所述波束照射装置以及所述波束偏移装置的控制装置，其特征在于：

所述控制装置包括初始化装置，其用于在启动时执行初始操作来驱动所述移动装置或者所述波束偏移装置中的至少一个，使所述束点的原点与所述转盘的转动中心重合。

2、根据权利要求1所述的主盘曝光设备，其特征在于：通过检测形成于所述转盘或者所述主盘的表面上的标记的位置来执行用于使所述束点的所述原点与所述转盘的所述转动中心重合的所述初始操作。

3、根据权利要求2所述的主盘曝光设备，其特征在于：所述初始化装置包括：

标记位置检测装置，其用于根据从所述束点获得的第二电子或者反射电子获得指示所述标记位置的标记位置信号；

转动中心偏移量检测装置，其用于根据在所述转盘或者所述主盘上的不同角度位置处获得的至少两个标记信号，检测所述转盘的所述转动中心的位置距所述波束原点的偏移量；以及

第一波束位置调整装置，其用于根据所述偏移量驱动所述波束偏移装置，从而使所述转动中心与所述波束原点重合。

4、根据权利要求2所述的主盘曝光设备，其特征在于：所述初始化装置包括：

标记位置检测装置，其用于根据从所述束点获得的第二电子或者反射电子获得指示所述标记位置的标记位置信号；

转动中心偏移量检测装置，其用于根据在所述转盘或者所述主盘上的不同角度位置处获得的至少两个标记信号，检测所述转盘的所述转动中心的位置距所述波束原点的偏移量；和

第二波束位置调整装置，其用于根据所述偏移量驱动所述移动装置，从而使所述转动中心与所述波束原点重合。

5、根据权利要求1所述的主盘曝光设备，其特征在于：所述主盘曝光设备在所述初始操作之前通过使用所述波束，在所述主盘上其转动中心之外的区域内形成标记。

6、一种调整主盘曝光设备的波束照射位置的方法，所述主盘曝光设备包括：

用于转动主盘的转盘；

用于在至少一个方向上水平移动所述转盘的移动装置；

用于将电子束照射到所述转盘从而将束点形成在所述转盘上或者在所述主盘上的波束照射装置；用于偏移波束的波束偏移装置；以及

用于控制所述移动装置、所述波束照射装置以及所述波束偏移装置的控制装置，

所述方法包括以下步骤：

在启动时执行用于驱动所述移动装置或者所述波束偏移装置中的至少一个而使所述束点的原点与所述转盘的转动中心重合的初始操作。

7、根据权利要求6所述的波束照射位置调整方法，所述方法还包括：

标记位置检测步骤，其用于获得标记位置信号，所述标记位置信号是根据从所述束点获得的第二电子或者反射电子获得的，并且所述标记位置信号指示形成在所述转盘或者所述主盘的表面上的标记位置；

转动中心偏移量检测步骤，其用于根据在所述转盘或者所述主盘上的不同角度位置处获得的至少两个标记信号，检测所述转盘的所述转动中心的位置距所述波束原点的偏移量；以及

波束位置调整步骤，其根据所述偏移量驱动所述波束偏移装置，从而使所述转动中心与所述波束原点重合。