[发明专利]纵式基板运送装置及成膜装置有效
申请号: | 200780007217.3 | 申请日: | 2007-04-11 |
公开(公告)号: | CN101395711A | 公开(公告)日: | 2009-03-25 |
发明(设计)人: | 中村肇;谷口麻也子;石野耕司;进藤孝明;筒井润一郎;菊地幸男;斋藤一也 | 申请(专利权)人: | 株式会社爱发科 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;B65G49/06;C23C14/56 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 何腾云 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 纵式基板 运送 装置 | ||
1.一种纵式基板运送装置,将基板以大致直立的姿势运送到处理室,其特征在于,备有:
可处理上述基板的任意面地支承着上述基板的托架;
将上述基板移载到上述托架上的装入机构;
变换上述托架的运送姿势的姿势变换机构;
收容上述已变换了姿势的托架并将该托架运送到上述处理室的运送室;
处理上述基板的一面的上述处理室,
上述姿势变换机构具有第1旋转机构和第2旋转机构,
上述第1旋转机构使上述托架绕铅直方向旋转,以此变换上述基板的运送姿势,
上述第2旋转机构能够以呈两列并列的状态收容上述托架,
通过上述第1旋转机构以上述基板的成膜面分别朝外的方式变换了姿势的托架,被运送到上述第2旋转机构,上述第2旋转机构将收载成两列的托架同时向上述运送室运送。
2.如权利要求1所述的纵式基板运送装置,其特征在于,上述托架,是包围上述基板周围的框状,并且在内周侧具有夹持上述基板的缘部的夹持机构。
3.如权利要求1所述的纵式基板运送装置,其特征在于,上述装入机构和上述姿势变换机构设置在大气中,上述处理室内排气成真空,上述运送室是荷载锁定室。
4.如权利要求1所述的纵式基板运送装置,其特征在于,上述处理室,是备有配置在上述托架行进方向两侧方的一对溅射阴极的成膜室。
5.一种成膜装置,备有将基板以大致直立的姿势运送到成膜室的纵式基板运送机构,其特征在于,上述纵式基板运送机构备有:
可对上述基板的任意面进行成膜地支承着上述基板的托架;
能够变换上述托架的运送姿势的姿势变换机构;
收容上述已变换了姿势的托架并将该托架运送到上述成膜室的运送室;并且,
上述成膜室,备有配置在上述托架行进方向两侧方的一对成膜源,
上述姿势变换机构具有第1旋转机构和第2旋转机构,
上述第1旋转机构使上述托架绕铅直方向旋转,以此变换上述基板的运送姿势,
上述第2旋转机构能够以呈两列并列的状态收容上述托架,
通过上述第1旋转机构以上述基板的成膜面分别朝外的方式变换了姿势的托架,被运送到上述第2旋转机构,上述第2旋转机构将收载成两列的托架同时向上述运送室运送。
6.如权利要求5所述的成膜装置,其特征在于,上述成膜源是溅射阴极。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社爱发科,未经株式会社爱发科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200780007217.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体发光元件
- 下一篇:基于温度场的道路清冰雪机
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造