[发明专利]糊状物、使用糊状物制造等离子体显示板的方法和等离子体显示装置无效

专利信息
申请号: 200780006357.9 申请日: 2007-06-26
公开(公告)号: CN101390184A 公开(公告)日: 2009-03-18
发明(设计)人: 卢正锡;徐泳佑;韩昌旼 申请(专利权)人: LG电子株式会社
主分类号: H01J17/49 分类号: H01J17/49
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 蔡胜有;王春伟
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 糊状 使用 制造 等离子体 显示 方法 显示装置
【权利要求书】:

1.一种用于制造等离子体显示板(PDP)的糊状物,所述糊状物包含:

有机组分;和

无机组分,

其中所述糊状物是用于在所述PDP上形成扫描电极或维持电极的电极糊状物,所述无机组分包含玻璃熔块和导电金属,

其中所述玻璃熔块是所述糊状物的1.5-4重量%,和

其中所述玻璃熔块是所述无机组分的3-4.5重量%。

2.根据权利要求1所述的糊状物,其中所述有机组分是所述无机组分的35-45重量%。

3.一种用于制造等离子体显示板(PDP)的糊状物,所述糊状物包含:

有机组分;和

无机组分,

其中所述糊状物是用于在所述PDP上形成黑色基质的黑色基质糊状物,所述无机组分包含玻璃熔块和氧化钴,

其中所述玻璃熔块是所述糊状物的1.5-4重量%,和

其中所述玻璃熔块是所述无机组分的15-25重量%。

4.根据权利要求3所述的糊状物,其中所述无机组分是所述有机组分的25-40重量%。

5.根据权利要求1所述的糊状物,其中所述糊状物具有10-25帕斯卡·秒的粘度。

6.根据权利要求3所述的糊状物,其中所述糊状物具有10μm的研磨细度(FOG)。

7.一种制造PDP的方法,所述PDP包括电极、黑色基质和介电材料,所述方法包括:

将用于形成黑色基质的黑色基质糊状物和用于形成电极的电极糊状物施加到基板上;

在所述基板上层叠介电材料;和

同时焙烧所述黑色基质糊状物、所述电极糊状物和所述介电材料,

其中所述黑色基质糊状物的厚度是1.5-2.5μm。

8.根据权利要求7所述的方法,其中所述电极糊状物包含:

有机组分;和

包含玻璃熔块和银(Ag)的无机组分,

其中所述玻璃熔块是所述电极糊状物的1.5-4重量%。

9.根据权利要求7所述的方法,其中所述黑色基质糊状物包含:

有机组分;和

包含玻璃熔块和氧化钴的无机组分,

其中所述玻璃熔块是所述黑色基质糊状物的1.5-4重量%。

10.根据权利要求7所述的方法,其中所述电极糊状物的厚度是7-9μm。

11.一种等离子体显示装置,包括:

上基板;

在所述上基板上形成的第一电极、第二电极和黑色基质;

面对所述上基板的下基板;和

在所述下基板上形成的第三电极,

其中所述第一电极、第二电极和第三电极中的至少一个包含玻璃熔块和导电金属,所述玻璃熔块是所述第一电极、第二电极和第三电极中包含所述玻璃熔块的任一个的2.5-4重量%,和

其中所述黑色基质的厚度是0.25-0.45μm。

12.根据权利要求11所述的等离子体显示装置,其中所述第一电极、第二电极和第三电极中的包含所述玻璃熔块的任一个的厚度是3-5μm。

13.根据权利要求11所述的等离子体显示装置,其中所述玻璃熔块是所述第一电极、第二电极和第三电极中的包含所述玻璃熔块的任一个的3-3.5重量%。

14.根据权利要求11所述的等离子体显示装置,其中所述黑色基质包含玻璃熔块和氧化钴,所述黑色基质的所述玻璃熔块是所述黑色基质的15-25重量%。

15.根据权利要求11所述的等离子体显示装置,其中所述黑色基质的所述玻璃熔块是所述黑色基质的20-25重量%。

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