[发明专利]信息记录介质及其制造方法

权利要求书

1.一种信息记录介质，其包括：

基板；

设置在基板上的记录膜；和

设置在基板上的介电体膜，

其中所述记录膜由通过光能照射引发体积膨胀的记录材料制成，并且所述介电体膜由ZrO₂和Cr₂O₃制成。

2.根据权利要求1的信息记录介质，所述介电体膜包含40原子％或以上且90原子％或以下的Cr₂O₃。

3.根据权利要求1的信息记录介质，其中所述介电体膜还包含SiO₂。

4.根据权利要求1的信息记录介质，其中所述记录膜包括锗氧化物制成的氧化物膜。

5.根据权利要求4的信息记录介质，其中所述记录膜还包括与所述氧化物膜邻接的邻接膜，并且所述邻接膜由钛(Ti)制成。

6.根据权利要求4的信息记录介质，其中所述记录膜还包括与所述氧化物膜邻接的邻接膜，并且所述邻接膜由TiSi制成。

7.根据权利要求1的信息记录介质，其中所述介电体膜的膜厚为2nm或以上且20nm或以下。

8.根据权利要求1的信息记录介质，其中由ZnS-SiO₂制成的介电体膜设置在所述记录膜以及由ZrO₂和Cr₂O₃制成的所述介电体膜之间。

9.一种制造信息记录介质的方法，所述信息记录介质具有基板、设置在基板上的记录膜和设置在基板上的介电体膜，所述方法包括以下步骤：

由通过光能照射引发体积膨胀的记录材料形成所述记录膜；以及

形成由ZrO₂和Cr₂O₃制成的所述介电体膜。