[实用新型]用于湿制程设备上方排气的液气分离结构有效
申请号: | 200720183482.4 | 申请日: | 2007-12-06 |
公开(公告)号: | CN201130283Y | 公开(公告)日: | 2008-10-08 |
发明(设计)人: | 李天立;邱炳彰;钟玉华 | 申请(专利权)人: | 均豪精密工业股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;H05K3/00;B05B15/00 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 章社杲;吴贵明 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 湿制程 设备 上方 排气 分离 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种湿制程设备,尤其涉及一种湿制程设备的排气构造。
背景技术
液晶显示面板主要是玻璃基板、偏光板、透明电极、配向膜、液晶薄膜与彩色滤光片等构成,在制造液晶显示面板的过程中,有多道制程会使用到湿制程设备,湿制程设备主要是让基板承载于一输送带上,并经由传动机构的传动,让基板经过一喷洒液体的喷洒系统,以让液体均匀冲刷该基板,而依据液体的不同,即可以对基板进行不同的湿制程处理作业。
传统湿制程设备,请参阅图1所示,湿制程设备1设有一上方排气口2,而湿制程设备1内部多为饱和湿气或微小水滴的混和空气,因此水气会凝结于上方排气口2的壁面处,等水气慢慢凝结形成足够大的水滴时,其即会沿着内壁面滴落而变成回滴水,回滴水会直接滴落进入湿制程设备1内部,因此回滴水会变成湿制程设备1内的污染源,而会影响湿制程设备1的制造良率。
实用新型内容
因此,本实用新型的主要目的在于揭露一种设置于湿制程设备上方排气口的液气分离结构,以避免回滴水滴落进入湿制程设备内部。
经由以上可知,为实现上述目的,本实用新型为一种用于湿制程设备上方排气的液气分离结构,其形成在湿制程设备的上方排气口上,其包含集水沟槽与水流管路,其中该集水沟槽环设在该上方排气口与该湿制程设备的接缝处,并使该上方排气口的下缘处正对该集水沟槽,而该水流管路的一端连接该集水沟槽的低处位置,该水流管路的另一端朝低处延伸且设置在该湿制程设备之外。
据此,当水气于该上方排气口凝结滴落形成回滴水时,回滴水会沿管壁直接滴落在该集水沟槽内,而被该集水沟槽承接,接着回滴水由该水流管路而排放,故因此可以避免成为湿制程设备内的污染源,相较已知而言,可以提升湿制程设备的制造良率。
附图说明
图1为已知湿制程设备的结构图。
图2为本实用新型的结构图。
图3-1为本实用新型的结构局部剖视图。
图3-2为本实用新型图3-1的局部放大图。
具体实施方式
为了对本实用新型的特征、目的及功效,有更加深入的了解与认同,列举优选实施例并配合附图说明如后:
请参阅图2、图3-1与图3-2所示,本实用新型为一种用于湿制程设备10上方排气的液气分离结构,其形成在一湿制程设备10的一上方排气口20上,其包含一集水沟槽30与一水流管路40,其中该集水沟槽30环设在该上方排气口20与该湿制程设备10的接缝处,并使该上方排气口20的下缘处21正对该集水沟槽30,其可承接该上方排气口20沿管壁滴落的回滴水50。
该水流管路40的一端连接该集水沟槽30的低处位置,以承接该集水沟槽30内的回滴水50,而该水流管路40的另一端朝低处延伸且设置在该湿制程设备10之外,因此可通过重力将回滴水50排出,而且该水流管路40可于该湿制程设备10之外的一端,设有一快速接头60,该快速接头60可以方便连接一排水软管70,以供通过该排水软管70将回滴水50导至排放下水道排出。
如上所述,本实用新型通过该集水沟槽30的设置,因而可避免因水气凝结于管壁而由该上方排气口20滴落的回滴水50进入该湿制程设备10内部,而且通过该水流管路40的导引回滴水50排出,因此本实用新型可以提升该湿制程设备10的制造良率。
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