[实用新型]一种制程设备辅助进气口

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种制程设备辅助进气口，尤其涉及一种在需散热的制程设备中，可均匀各层处理板前后段气流散热或制程效果制程设备辅助进气口。

背景技术

以特定频率的光源照射相对应能隙的物体，可令原本位于价带的电子跳跃至传导带，以产生较大的活性与特定的反应，利用特定光源照射的处理方式，被广泛的运用于各式制程设备中。

操作高频率光源，例如紫外线等高频率光源时，无可避免的会伴随产生相当多的热量，这些热量往往并非制程中所需要的，甚至是制程中必需避免的，否则容易引起产品质量的变化，因此制程设备中便需要搭配各式降温设计，其中较常见的为气冷系统，通过压缩机或鼓风机等设备将低温气体导入制程设备中，据以令受光照的基板等产品，可由气流带走多余的热量，使得基板等物体可保持在一定的温度下，以维持产品质量，增进制程效果。

现有的制程设备装置如美国专利第3994073、4646446号所揭露的，其皆简单的以一压缩机或鼓风机，将低温气体由一进气端吹入制程设备的处理区，再由排气端将温度升高后的气体排出，此种方式若使用于具有较大处理区的制程设备上，则该处理区前段与后段之间保持有一段距离，当低温气体经由前段流到后段时，气体温度已升高不少，因此对后段而言，气冷效果不佳，进而使处理区内受光照的基板等物体散热效果不一，部分基板无法有效散热，质量不佳、良率下降、制程效果较差。因此就整体而言，其可说是相当不具有实用性，仍有加以改良的必要。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种制程设备辅助进气口，旨在解决现有的制程设备的气流受处理区规模的影响，较大的处理区其处理板的前段与后段气流流量与气流温度不同，使制程效果较差的问题。

本实用新型是这样实现的，一种制程设备辅助进气口，其包括一处理区，并为该处理区提供一主气流，该处理区内设有一辅助进气部，该辅助进气部延伸有多个辅助气管，该辅助气管上设有多个辅助气孔；

且因辅助气管内气流会随辅助气孔向外喷出，故辅助气管末端的气体压力必然较辅助气管头端小，为避免辅助气管各辅助气孔所喷出的辅助气流流量相差甚大而降低散热、制程效果，故该辅助气孔的大小可由辅助气管的末端向头端渐缩，于辅助气管头端以较小的辅助气孔来抑制过多的辅助气体喷出，减少头端的流量；而于辅助气管末端以较大的辅助气孔来减少辅助气体喷出的压力，增加末端的流量，以达到辅助气体均匀喷出至处理板各处的目的；

本实用新型提供的制程设备辅助进气口，其在装置本体原有的主气流之外，更设有一辅助进气部，该辅助进气部在处理板内每间隔一小段距离便形成有一辅助气管，而每一气管皆设有辅助气孔且可喷出辅助气体，以有效平衡散热效果，免除现有的仅具有主气流的装置本体，若处理区较大，则该处理板前段与后段则散热效果差异甚大，进而影响成品与制程效果，因此本实用新型实是相当具有实用性及进步性，值得产业界来推广，并公诸于社会大众。

附图说明

图1是本实用新型提供的制程设备辅助进气口的外观立体示意图；

图2是本实用新型提供的制程设备辅助进气口的处理板示意图；

图3是本实用新型提供的制程设备辅助进气口辅助进气部于处理板内的剖视示意图；

图4和图5是本实用新型提供的制程设备辅助进气口的辅助气管的不同实施例的示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

本本实用新型涉及一种制程设备辅助进气口，请参阅图1至图3，该制程设备辅助进气口主要包括一制程设备的装置本体1，该装置本体1内设有处理区10，该处理区10内可设置一个或多个处理板101，且该装置本体1内设有鼓风机(图未示)，为处理区10提供一主气流20以降低其温度，为了便于说明，本实用新型以一现有的紫外线多层炉作为结构进行叙述，而该现有的结构并不属本实用新型所要申请的，故其详细功效与作动原理在此不再赘述，在此先说明。

该处理区10在各处理板101上设有辅助进气部11，该辅助进气部11具有一进气口111可与装置本体1内的鼓风机连接，并导入部分的低温冷却气体，以使辅助进气部11的气体更为均匀的吹入处理区10；