[实用新型]制程设备气流多段循环系统有效
申请号: | 200720146216.4 | 申请日: | 2007-06-27 |
公开(公告)号: | CN201056085Y | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 许海津;邱千瑞 | 申请(专利权)人: | 志圣工业股份有限公司 |
主分类号: | B41F23/04 | 分类号: | B41F23/04 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 设备 气流 循环系统 | ||
【技术领域】
本实用新型涉及一种气流多段循环系统,尤其涉及一种制程设备气流多段循环系统。
【背景技术】
以特定频率的光源照射相对应能隙的物体,可令原本位于价带的电子跳跃至传导带,以产生较大的活性与特定的反应,此种利用特定光源照射的处理方式,被广泛的运用在各式制程设备中。
操作高频率光源,例如紫外线等高频率光源时,不可避免的会伴随产生相当多的热量,这些热量往往不是制程中所需要的,甚至是制程中必须避免的,否则容易引起产品质量的变化。因此制程设备中便需要搭配各式降温设计,其中较常见的为气冷系统,通过由压缩机或鼓风机等设备将低温气体导入制程设备中,令受光照的基板等产品,可由气流带走多余的热量,使得基板等物体可保持在一定的温度下,以维持产品质量,增进制程效果。
常用的制程设备装置如美国专利第US3994073号及第US4646446号,均简单的以一压缩机或鼓风机,将低温气体由一出气端吹入制程设备的处理区;再由吸气端将温度升高后的气体排出。此种方式若使用在具有较大处理区的制程设备上,则该处理区前段与后段之间保持有一段距离,当低温气体经由前段流到后段时,气体温度已升高不少。因此对后段而言,气冷效果不佳,进而使处理区内受光照的基板等物体散热效果不一,部分基板无法有效散热,质量不佳良率下降,制程效果较差。
【实用新型内容】
本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种制程设备气流多段循环系统,其可均匀有效散热,降温散热及制程效果较好。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:提供一种制程设备气流多段循环系统,其内设有一处理区;其中,所述处理区内设有至少一出气部及至少一吸气部,所述出气部延伸有多个出气支部分布在处理区内,而吸气部延伸有多个吸气支部分布在处理区内;所述出气支部上设有多个出气孔,而所述吸气支部上设有多个吸气孔,且出气部的出气支部与吸气部的吸气支部相互间隔设置。
与现有技术相比较,本实用新型制程设备气流多段循环系统除原本便有的冷却气流之外,更于处理区各处理板内设置出气部与吸气部,每一出气部由出气支部出气孔所喷出的气体,由吸气部吸气支部的吸气孔吸入,形成一行程小但密集的气流循环系统,如此可确保处理区内各处的气流流量均匀,且气流的降温效果相同,可均匀有效散热,降温散热及制程效果较好。
【附图说明】
图1是本实用新型一较佳实施例的立体示意图。
图2是图1所示实施例中出气部与吸气部的示意图。
【具体实施方式】
为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参阅图1及图2,是本实用新型制程设备气流多段循环系统的一较佳实施例,其上设有处理区10,所述处理区10内容置一个或多个处理板101,制程设备内设有鼓风机,以提供处理区10低温气流来降温。本实施例的制程设备以常用的紫外线多层炉为例,所述处理区10在各处理板101上设有紫外线灯体,并可承载玻璃基板,通过灯体的紫外光照射基板达到制程的目的。
所述处理区10的处理板101内设置有至少一组出气部11与吸气部12。
所述出气部11具有一入气口111,入气口111可接设在制程装置的鼓风机等装置上来获得冷却气流,而所述出气部11延伸出多个出气支部112。所述出气支部112分布在处理区10的处理板101内,且出气支部112上设有多个出气孔113,通过所述出气孔113喷出冷却气流在处理板101内。所述出气支部112可旋动调整,来改变出气孔113的方向。
该吸气部12系具有一排气口121以排除处理区10内之气流,而该吸气部12并延伸出有复数之吸气支部122,该吸气支部122系分布于处理区10之处理板101内,且该吸气支部122上设有复数之吸气孔123,藉该吸气孔123以吸入出气部11喷出之冷却气流,而形成一小循环;该出气支部112系可旋动调整,据以改变出气孔113之方向;
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