[实用新型]真空镊子用吸附片和真空镊子

说明书

技术领域

本实用新型涉及吸附保持并运送半导体晶片、玻璃基板、金属盘等平板基板的真空镊子用吸附片和真空镊子，特别是涉及从以规定的间隔被收容在收容容器内的多个平板基板之中逐片抽取平板基板，或者在将平板基板逐片收容在收容容器内时所使用的真空镊子用吸附片和真空镊子。

背景技术

从以规定的间隔被收容在收容容器内的多个平板基板之中逐片抽取平板基板，或者在逐片收容在收容容器内时所使用的真空镊子，例如成为图3所示的结构。在图3所示的真空镊子中，吸附片20经连接构件30与镊子主体10的前端连接。镊子主体10在吸附保持平板基板时以操作员所握持的部分使吸附片20的表面与平板基板接触并吸附。

在吸附片20中，预先形成在成为吸附面1的表面开口的吸引口2，在内部形成内部吸引通路3。内部吸引通路3在与吸引口2连通的同时，从吸附片20的镊子主体10一侧的侧面部所设置的开口(连接口)，与在连接构件30和镊子主体10的内部所形成的吸引通路4连通。吸引通路4成为通过与泵40连接而被吸引的结构。

例如，如被收容在托架上的半导体晶片那样，在从以恒定的间隔被收容的平板基板之中抽取1片的情况下，在以恒定间隔排列的平板基板之间插入吸附片20，使吸附面1与平板基板的背面接触，使之吸引并吸附保持。此时，如在平板基板之间的间隙深深插入吸附片20，则在增高与邻接于欲吸附的平板基板的背面一侧的平板基板的表面接触的可能性。因此，如图4(A)所示，对现有的吸附片20而言，由于使插入平板基板间的狭窄间隙的插入尺寸恒定，所以成为具备突出于所吸附的平板构件的表面一侧的挡块5的结构(例如请见特开平2-23547号公报)。另外，如图4(B)所示，成为具备用于固定平板基板的沟槽6的结构(例如请见实开平5-29149号公报)。

实用新型内容

在现有的真空镊子中，通过在吸附片20中形成挡块5及沟槽6，成为不使吸附片20深深地插入所需深度或其以上的结构。然而，突出于吸附面1的表面一侧的挡块5及沟槽6却遮蔽了操作员的视野。另一方面，在未配备挡块5等的平板状的吸附片20中，插入尺寸并非恒定，与插入到平板基板之间的吸附片20的与背面一侧邻接的平板基板表面接触，招致裂痕或污染等的发生，这是我们所不希望的。特别是在平板基板是形成了半导体元件的半导体晶片的情况下，招致成品率降低，这也是我们所不希望的。本实用新型的目的在于，提供一种不会遮蔽操作员的视野而可使吸附片的插入尺寸恒定的真空镊子用吸附片和真空镊子。

为了达到上述目的，本申请第1方面的真空镊子用吸附片是一种与平板基板的一个表面接触，构成吸附保持上述平板基板的真空镊子的前端部的吸附片，其特征在于，包括：平面状表面部，具备了与上述平板基板的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

本申请第2方面的真空镊子用吸附片是一种与平板基板的一个表面接触，构成吸附保持上述平板基板的真空镊子的前端部的导电性的吸附片，其特征在于，包括：平面状表面部，具备了与上述平板基板的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。

本申请第3方面的真空镊子是一种吸附保持平板基板的真空镊子，其特征在于，包括：镊子主体部，在内部具备了吸引通路；以及吸附片，与连接在该镊子主体部前端的上述平板基板接触，该吸附片包括：平面状表面部，具备了与上述平板基板的一个表面相接而吸附的吸引口；上述吸附片内部的内部吸引通路，在与上述吸引口连通的同时，与在内部具备了吸引通路的上述真空镊子的主体部连接；侧面部，具备了与上述吸引通路连接的上述内部吸引通路的连接口；以及多个凸起部，在上述平面状表面部背面的上述侧面部一侧，突出于上述平面状表面部的背面一侧，相互隔开配置。