[实用新型]研磨垫调节器的缓冲结构有效
| 申请号: | 200720071432.7 | 申请日: | 2007-06-22 |
| 公开(公告)号: | CN201089113Y | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
| 发明(设计)人: | 陈肖科 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号: | B24B37/04 | 分类号: | B24B37/04;B24B29/02;H01L21/304 |
| 代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 王洁 |
| 地址: | 2012*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 研磨 调节器 缓冲 结构 | ||
技术领域
本实用新型涉及化学机械研磨装置,尤其涉及一种研磨垫调节器的缓冲结构。
背景技术
化学机械研磨的制程中,研磨台与晶圆载具分别沿一定的方向旋转,研磨台上设有研磨垫,其表面凹凸不平,可用于传输研磨液。当研磨垫使用一段时间后,表面会被磨的平坦,以致研磨速率降低,同时研磨垫上的一些空洞会被一些研磨液堵塞,影响研磨效果。因此需要研磨垫调节器,通过其上的钻石颗粒刮粗研磨垫表面,同时去除残留在研磨垫中的堵塞的研磨液。研磨垫调节器内部设有一个缓冲结构,这个缓冲结构用于研磨垫调节器下压,使研磨垫调节器的钻石颗粒来调节研磨垫表面。
请参阅图1,为现有技术中的研磨垫调节器的缓冲结构的示意图。该研磨垫调节器主要由支撑环,中心圆片以及连接中心圆片和支撑环的十子架构组成。十子架构的中段分别设有一段弯折部分,用于增加十子架构的弹性性能,可以缓冲研磨垫调节器在使用过程中的压力。然而,现有研磨垫调节器的十子架构的弯折部分很薄,容易断裂,一旦十子架构的一端断裂就会影响到研磨垫调节器的调节精度,需要频繁检查并更换该缓冲结构,不仅降低了生产效率,而且相应提高了生产成本。
因此,现需要一种改进的研磨垫调节器的缓冲结构。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种改进的研磨垫调节器的缓冲结构,其使用寿命大大增加。
为实现上述目的,本实用新型提供一种研磨垫调节器的缓冲结构,其首先安装在研磨垫调节器上,然后再将研磨金刚石盘安装到研磨垫调节器上;其中,该结构整体是一个圆形结构,该圆形结构从最外缘到圆心分别包括最外缘的一圈凸块结构,中部设置的弯折段,临近圆心的环形凸块以及中心凹陷部。凸块结构与研磨垫调节器配合。环形凸块与研磨垫调节器配合。中心凹陷部与研磨金刚石盘相配合。缓冲结构中部设置的弯折段呈同心圆分布,用于增加整个缓冲结构的弹性。
与现有技术相比,本实用新型整体为一个圆形结构,有效解决现有技术中十子架构容易断裂的缺点,延长了研磨垫调节器的使用寿命,不仅使生产效率得以提高而且降低了生产成本;同时设置了呈同心圆分布的弯折段,增大了弯折的面积,从而增强了弹性性能以及缓冲性能。
附图说明
通过以下对本实用新型的一实施例结合其附图的描述,可以进一步理解其实用新型的目的、具体结构特征和优点。其中,附图为:
图1是现有技术研磨垫调节器的缓冲结构的俯视图。
图2是本实用新型研磨垫调节器的缓冲结构的俯视图。
图3是本实用新型研磨垫调节器的缓冲结构的侧视图。
具体实施方式
本实用新型的研磨垫调节器的缓冲结构与研磨垫调节器(未图示),研磨金刚石盘(未图示)相配合,其整体是一个圆形结构。在安装本实用新型的缓冲结构时,首先将其安装到研磨垫调节器上,然后再在研磨垫调节器上安装研磨金刚石盘。
请参阅图2和图3,该缓冲结构从最外缘到圆心分别包括最外缘的一圈凸块结构21,中部设置的弯折段25,临近圆心的环形凸块27以及中心凹陷部29。
凸块结构21用于与研磨垫调节器安装。缓冲结构的中部设置的弯折段25呈同心圆分布,用于增加整个缓冲结构的弹性。在本实用新型较佳实施例中,弯折段25的最内圈距离圆心的半径19mm,最外圈距离圆心的半径为34mm;实验证明,弯折段25设置在距离圆心半径19mm至距离圆心半径34mm的范围内,可以达到较好的弹性。
中心凹陷部29用于与研磨金刚石盘配合安装,环形凸块27与凸块结构21与研磨垫调节器配合安装。
本实用新型整体为一个圆形结构,有效解决了现有技术中十子架构容易断裂的缺点,同时设置了呈同心圆分布的弯折段25,增大了弯折的面积,从而增强了弹性性能以及缓冲性能。
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