[实用新型]压电传感器的基片有效
申请号: | 200720031970.3 | 申请日: | 2007-06-07 |
公开(公告)号: | CN201045581Y | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
发明(设计)人: | 朱军 | 申请(专利权)人: | 朱军 |
主分类号: | G01D5/12 | 分类号: | G01D5/12 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 | 代理人: | 徐平 |
地址: | 710082*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 压电 传感器 | ||
1.一种压电传感器的基片,包括基片(1),其特征在于:所述的基片(1)为金属基片,该基片(1)与压电晶片相粘合的部位上均布有照相腐蚀孔(2),所述照相腐蚀孔(2)的加工精度≥0.1mm,所述照相腐蚀孔(2)的面积S≤10(mm)2。
2.根据权利要求1所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述照相腐蚀孔(2)的面积S≤1(mm)2。
3.根据权利要求1所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述照相腐蚀孔(2)的孔径D≤0.1mm。
4.根据权利要求1或2或3所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述照相腐蚀孔(2)的形状为圆形、三至多边形、梅花形。
5.根据权利要求4所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述基片(1)的厚度h≤0.1mm。
6.根据权利要求5所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述基片(1)的厚度h≤0.01mm。
7.根据权利要求6所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述照相腐蚀孔(2)的加工精度≥0.01mm。
8.根据权利要求7所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述照相腐蚀孔(2)的加工精度≥0.001mm。
9.根据权利要求8所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述的基片(1)为高弹金属基片。
10.根据权利要求9所述的压电传感器的基片,其特征在于:所述的基片(1)为恒性合金、铍青铜或钛合金。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于朱军,未经朱军许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200720031970.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。