[实用新型]用于多弧离子镀设备的靶座无效
| 申请号： | 200720011930.2 | 申请日： | 2007-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN201033800Y | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 郭强;张利鹏;王闯;郭文英;张钧 | 申请（专利权）人： | 沈阳大学 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 沈阳东大专利代理有限公司 | 代理人： | 戚羽 |
| 地址： | 110044辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 离子镀 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于多弧离子镀设备的靶座，其特征是：该靶座为圆柱体，靶座的上端有一凹槽，靶座的中部设有若干个螺纹孔，靶座的下部有螺纹。
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