[实用新型]一种紫外曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及光电产品封装应用的领域，尤其涉及一种采用紫外发光二极管的紫外曝光机。

背景技术

紫外曝光机是提供紫外线的装置，紫外线照射可以降低胶的黏着力。比如晶圆是制造IC的基本原料，为了保护晶圆表面不受研磨碎屑、水分侵入，防止晶圆表面受污染，通常在其表面封上胶带保护，在剥离胶带时，应先以紫外线照射晶圆，降低胶带黏着力后，再加压晶圆来剥离胶带。

在目前采用的紫外曝光机中，都是采用高压汞灯来产生紫外线。高压汞灯使用寿命短、光谱复杂、耗电功率大，并且启动慢，在应用中存在成本过高、难维护等问题。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种采用紫外发光二级管，耗电功率小、使用寿命长的紫外曝光机。

为了实现上述目的，本实用新型紫外曝光机包括壳体、光源控制系统和曝光室，曝光室设有盖板、曝光平台和发光装置，曝光平台设在发光装置的上方，曝光平台的下方设有气孔，发光装置的下方设有散热装置，发光装置由光源控制系统连接控制，壳体一侧设有光源控制系统的操作指示面板，其中发光装置包括印刷电路板和阵列式均匀排列在印刷电路板上的紫外发光二极管。

上述的紫外发光二极管由四个以上组成方形或正六边形阵列。

上述的印刷电路板为铝基印刷电路板或FR4印刷电路板。

上述的光源控制系统包括高功率二极管驱动模块和控制模块，控制紫外发光二极管均匀发光的数量和曝光的范围。

上述的曝光平台采用紫外线透射率高的玻璃片。

本实用新型采用上述结构，采用光源控制系统控制紫外发光二极管阵列中各个发光二极管的明灭状态，控制发光的数量和曝光的范围，形成均匀的、足够光功率密度的紫外面光源照射到晶圆上，以满足不同尺寸晶圆的曝光需要，从而达到曝光效果，并且紫外发光二极管具有寿命长、耗电少、启动快等优点。

图示说明下面结合附图对实用新型作进一步详细说明：

图1本实用新型紫外曝光机的立体结构示意图；

图2本实用新型紫外曝光机使用状态的俯视示意图；

图3本实用新型紫外曝光机的剖视示意图；

图4本实用新型紫外发光二极管阵列之一的示意图；

图5本实用新型紫外发光二极管阵列之二的示意图；

具体实施方式

请参阅图1、2、3、4或5所示，本实用新型紫外曝光机包括壳体1、光源控制系统2和曝光室3，光源控制系统2和曝光室3设在壳体1内，壳体1一侧设有光源控制系统2的操作指示面板21，曝光室3设有盖板31、曝光平台32和发光装置33，曝光平台32设在发光装置33的上方，采用紫外线透射率高的玻璃片，保证晶圆5表面有足够的平均光功率，在曝光平台32下方设有气孔321，作为通气、检测、排气使用，以达到曝光所需环境。发光装置33包括印刷电路板331和阵列式均匀排列在印刷电路板331上的紫外发光二极管332，其下方设有散热装置34，散热装置34包括一个风扇提供流动气体，保证光源的良好散热。印刷电路板331为铝基印刷电路板或FR4印刷电路板，铝基印刷电路板有良好的散热效果。紫外发光二极管332由四个以上均匀组成方形或正六边形等阵列。发光装置33由光源控制系统2连接控制，光源控制系统2包括高功率二极管驱动模块22和控制模块23，其控制紫外发光二极管332均匀发光的数量和曝光的范围。

如图2所示，当晶圆5需要曝光时，被置于曝光平台32上，合上盖板31，在图1所示的操作指示面板21上设定光源控制系统2中控制模块23的参数、然后通过气孔321给曝光室3充气，并保持曝光室3正压后；这时可以启动高功率二极管驱动模块22点亮高功率紫外发光二极管332，并在控制模块23中预先设定的参数条件下完成曝光工作。