[实用新型]加热材料的显微装置无效

专利信息
申请号: 200720000941.0 申请日: 2007-01-17
公开(公告)号: CN201072465Y 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 李大光 申请(专利权)人: 台湾矽镁科技股份有限公司
主分类号: G02B21/30 分类号: G02B21/30;G02B21/24;G02B21/32;G02B21/00
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 加热 材料 显微 装置
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及的是一种能控制测试物质的加热、移动,进而直接观察测试物质状态的加热显微装置。

背景技术

现今欲观察测试物质如锡膏加热后的状态,经常使用的方式是先用手拿烙铁去加热测试物质,再用手拿夹子迅速将测试物质移至显微镜下,进行观察。

虽然以手动的方式加热与移动,也能使测试物质达到被观察的功能。在简易的条件下,确实只能用手动的方式,但是加热的温度与移动的稳定性都难以准确掌控,因此所观察数据的不确定性也随的增加。

发明内容

本实用新型的目的在于,提供一种加热材料的显微装置,使可控制测试物质的加热至固定温度与移动可控制至定位,进而观察测试物质的状态。

为了提供测试物质的加热可控制至固定温度,本实用新型采用的技术方案在于,提供一种加热材料的显微装置,其包括:一显微装置,所述的显微装置还包括一显微镜与一位置调整部,所述的位置调整部连接在所述的显微镜的底部;一加热装置,所述的加热装置还包括一加热板、一轨道装置、一置放架,所述的轨道装置设有一轨道,所述的置放架的一侧连接至所述的轨道上且位于所述的加热板的上方;一控制装置,所述的控制装置可电连接至所述的加热板、所述的轨道单元与所述的显微镜;还包括一测试片与一处理装置,所述的测试片置于所述的置放架的两端,所述的处理装置电连接控制器,以命令前述的置放架,将所述的测试片置放加热板上加热分解后移动至显微装置下方,供显微装置使用者观察分析试片上的材料。

本实用新型的加热材料显微装置除有上述的构成与功效外,因其加热板、轨道与显微镜是可控制,故也可利用计算机系统设定控制参数,以控制本加热显微装置达到自动化。

附图说明

图1为本实用新型的立体图;

图2为本实用新型实施例的立体图之一;

图3为本实用新型实施例的立体图之二;

图4为本实用新型实施例的局部放大示意图。

附图标记说明:10-显微装置;11-显微镜;111-接目镜;112-接物镜;12-位置调整部;20-加热装置;21-加热板;22-轨道装置;221-轨道;24-置放架;241-山型凹陷部;30-控制装置;40-处理装置;50-测试片。

具体实施方式

兹配合图式将本实用新型较佳实施例详细说明如下。

请参阅图1所示,其是为本实用新型的立体图。其中包括:

一显微装置10,所述的显微装置10还包括一显微镜11与一位置调整部12,所述的位置调整部12连接在所述的显微镜11的底部;一加热装置20,所述的加热装置20还包括一加热板21、一轨道装置22、一置放架24,所述的轨道装置22设有一轨道221,所述的置放架24的一侧连接至所述的轨道221上且位于所述的加热板21的上方;一控制装置30,所述的控制装置30可电连接至所述的加热板21、所述的轨道装置22与所述的显微镜11。

其中,所述的显微装置10是由一设有二个接目镜111与一接物镜112的显微镜11,以及一位置调整部12所组成,首先位置调整部12调整显微镜11的方位,使预备置放测试片的置放架24能在接物镜112正下方,而所述的接目镜111与置放架24位置能配合观察使用,可看到所述的测试片50上的测试物质。

再者,所述的加热装置20是由一设有一轨道221的轨道装置22、一加热板21与一置放架24所组成。

请参阅图2至图4所示,其是为本实用新型实施例的立体图。其中,所述的控制装置30连接至一具有控制功能的处理装置40如计算机系统,以接受所述的处理装置40的指令。处理装置40可设定加热装置20的温度与时间、可设定轨道装置22轨道221的移动位置与进一步可接收显微镜11所观察到测试物质状态的影像数据。

首先使用一测试片50,置在置放架24的山型凹陷部241上,所述的置放架24一侧连接至轨道221,凭借控制装置30控制轨道装置22的轨道221,而移动置放架24至接触加热板21;控制装置30控制加热温度与时间,连接的加热板21也随的加热到所控制的温度;然后控制装置30控制轨道装置22的轨道221,而移动置放架24至显微装置10接物镜112的下方,使显微装置10接目镜111可清楚观察到测试片50上的测试物质状态。

以上所述者,仅为本实用新型的一可行实施例的具体说明,并非用来限定本实用新型实施的范围。凡依本实用新型申请专利范围所做的均等变化与修饰,都为本实用新型申请专利范围所涵盖,且在不变更本实用新型实质的实施例也均属本实用新型申请专利范围。

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