[发明专利]汽车轮毂表面真空镀膜处理工艺有效
申请号: | 200710307219.6 | 申请日: | 2007-12-30 |
公开(公告)号: | CN101240423A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | 范多旺;范多进;令晓明;王成龙;孔令刚;武福;邓志杰;苗树翻;姚小明 | 申请(专利权)人: | 兰州大成自动化工程有限公司;兰州交通大学 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23G1/00;B05D1/12;B08B3/12;B08B7/00;C23C14/24;C23C14/35 |
代理公司: | 甘肃省知识产权事务中心 | 代理人: | 鲜林 |
地址: | 730070甘肃*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 汽车 轮毂 表面 真空镀膜 处理 工艺 | ||
技术领域
本发明涉及金属及塑料制品表面真空镀膜技术领域,特别是一种汽车轮毂表面真空镀膜处理工艺。
背景技术
目前,我国已成为汽车生产大国, 2007年上半年,我国生产、销售各类汽车总数分别为445.7万辆和437.4万辆,同比分别增长22.4%和23.3%,国家一年至少需要4.5亿吨原油,其中汽车用油将占国家整个用油量的55%”。目前高中档轮毂的表面处理多采用电镀技术。轮毂电镀不仅存在上述电镀行业共有的弊端,如产生大量的污染物、物料利用率低、水资源和金属资源需求量大且浪费严重而导致的价格昂贵,并且随着污水处理成本和金属市场价格的上涨而更加昂贵外,更主要的是由于汽车轮毂特殊的要求,需要在轮毂表面电镀铬,在轮毂电镀过程中产生大量可致癌的六价铬。国际上绿色贸易壁垒、环境保护要求不断加强,欧盟关于废弃电子电气设备指令WEEE(Waste Electrical andElectronic Equipment)和关于机电产品有毒物质的强制性标准法令RoHS(Restriction of Hazardous Substances)的正式生效,限制或禁止使用含铅、汞、镉、六价铬、多溴二苯醚(PBDE)、多溴联苯(PBB)这6种有害物质的电气电子产品在欧盟生产、销售或进入欧盟。美国环境保护署(EPA)已经明确规定将于2010年全面禁止六价铬的电镀生产。我国的《电子信息产品污染控制管理办法》已经于今年3月1日正式生效,控制六价铬工艺的使用。
实用新型内容
本发明的目的是从产品工艺设计和生产工艺源头减少污染,以跨越国际上绿色贸易壁垒,满足全球市场对汽车轮毂产品的要求,提供一种工序简单、成本低的汽车轮毂表面真空镀膜处理工艺。
本发明的目的通过下述技术方案实现:
一种汽车轮毂表面真空镀膜处理工艺,包括预处理、表面喷涂、清洗和镀膜工艺,包括下述步骤:
A.预处理,在超声清洗机中用清洗液和纯净水的混合液(1∶1000)对轮毂表面进行除油及脱模剂清洗;
B.表面喷涂,将经过预处理的汽车轮毂喷底粉;去桔皮;喷介质粉,介质粉的厚度为60~100μm,,固化温度为220~230℃,时间为20min;哄干;
C.离子清洗,将经表面喷涂处理且烘干的轮毂在真空环境下经辉光等离子体清洗,改变喷涂表面微结构;
D.真空镀膜,将经离子清洗的汽车轮毂在真空室体内进行真空镀膜处理,在喷涂表面制备金属或金属化合物镀层;
E.保护层制备,在同一真空室体内,在金属或金属化合物镀层表面连续制备保护层。
所述的表面喷涂工艺方法为静电喷涂。
所述的表面喷涂工艺中喷底粉所使用的涂料成分由聚脂粉50%和环氧树脂50%混合而成。
所述的辉光等离子体通过高压电场放电方式产生,在真空室体内的一对轰击极板或高压棒与室体间加500~2500V电压,电流为0.5~3.5A,产生辉光等离子流。
所述辉光等离子清洗的具体过程为:预抽真空,当室体真空度为3×10-3Pa开始向真空室体通过质量流量计精确充入惰性气体,将室内压强维持在4~5Pa;在稳定的辉光放电的条件下清洗50~500s,将表面喷涂层刻蚀成表面凹凸不平的微结构面,关闭轰击电源。
所述的真空镀膜方法为多弧离子镀膜,具体的步骤为:
预抽真空,当真空度到2×0-2Pa后,充入工作气体,将气压维持在0.1~2Pa,开启电弧离子镀膜电源,电压为20~50V,电流为30~80A,镀膜时间为90S~480S,镀膜过程中,在工件和室体间加负偏压150~1000V,室体内的温度为30~200℃。
所述的真空镀膜方法为磁控溅射镀膜,具体步骤为:
预抽真空,当真空度到2×10-2Pa后,充入工作气体,如氩气或氮气,将气压维持在0.8~15Pa,开启磁控溅射镀膜电源,电压为200~800V,电流为20~80A,镀膜时间为90S~480S,镀膜过程中,在工件和室体间加负偏压150~1000V,室体内的温度为30~200℃。
所述真空镀膜步骤中靶与基片的距离为50~500mm,沉积厚度为0.5~5μm。
所述的金属或金属化合物镀层和保护膜在同一室体内连续制备完成。
所述的保护层为透明保护层。
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