[发明专利]发光二极管的封装构造及其封装方法无效

专利信息
申请号: 200710305618.9 申请日: 2007-12-26
公开(公告)号: CN101471410A 公开(公告)日: 2009-07-01
发明(设计)人: 袁瑞鸿 申请(专利权)人: 亿光电子工业股份有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁 挥;张燕华
地址: 中国台湾台北县*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 发光二极管 封装 构造 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种发光二极管的封装构造,其特征在于,至少包含:

一基材;

一发光芯片,设于该基材上,并具有一第一折射率;以及

一缓冲层体结构,设于该基材上并覆盖该发光芯片,且包含:

一第一缓冲层体,覆盖该发光芯片,并具有一第二折射率;以及

一第二缓冲层体,覆盖该第一缓冲层体,并具有一第三折射率;

其中该第一折射率大于该第二折射率,以及该第二折射率大于该第三折射率。

2.根据要求1所述的发光二极管的封装构造,其特征在于,该第二折射率为约2.0,以及该第三折射率为约1.5。

3.根据要求1所述的发光二极管的封装构造,其特征在于,该第一缓冲层体为一透明胶体混合荧光粉的层体。

4.根据要求1所述的发光二极管的封装构造,其特征在于,该第二缓冲层体为一透明胶层体。

5.根据要求1所述的发光二极管的封装构造,其特征在于,该第二缓冲层体为一透明薄膜,该透明薄膜覆盖第一缓冲层体,并具有一厚度,该厚度为一1纳米到5毫米的范围之间。

6.根据要求1所述的发光二极管的封装构造,其特征在于,该发光芯片为一蓝光发光芯片。

7.一种发光二极管的封装方法,其特征在于,至少包含:

于一基材上进行一前制程,以将一发光芯片固定于该基材上并完成该发光芯片的电性连接;

形成一第一缓冲层体覆盖发光芯片;以及

形成一第二缓冲层体覆盖该第一缓冲层体;

其中该发光芯片、该第一缓冲层体以及该第二缓冲层体分别具有一第一折射率、一第二折射率以及一第三折射率,该第一折射率大于该第二折射率,该第二折射率大于该第三折射率。

8.根据权利要求7所述的发光二极管的封装方法,其特征在于,该第一缓冲层体使用模压方式形成。

9.根据权利要求7所述的发光二极管的封装方法,其特征在于,该第二缓冲层体使用灌胶方式、模压方式、镀模方式以及涂布方式的其中一种形成。

10.根据权利要求7所述的发光二极管的封装方法,其特征在于,该第二折射率为约2.0,以及该第三折射率为约1.5。

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